三价铬镀液组分的存在形式及其对电镀的影响规律.pdfVIP

第 26 卷第 5 期 中国有色金属学报 2016 年 5 月 Volume 26 Number 5 The Chinese Journal of Nonferrous Metals May 2016 文章编号：1004-0609(2016)-05-1136-07 三价铬镀液组分的存在形式及其 对电镀的影响规律 刘 洋，王明涌，栗 磊，王 志 (中国科学院 过程工程研究所 湿法冶金清洁生产技术国家工程实验室 绿色过程与工程重点实验室，北京 100190) 摘 要：通过理论计算和电镀实验研究镀液核心组分存在形式及其对铬电镀的影响规律。结果表明：络合剂脲或 甲酸 98%以上是以分子形式与 Cr(Ⅲ)离子形成三价铬活性络合物。根据三价铬络合物平衡构象图发现：相比于 CrL3+，Cr(OH)L2+更高的电化学活性归因于较大的水分子?中心铬离子距离。通过增加三价铬活性络合物浓度，能 显著提高铬电镀速率，可高达 1.2 μm /min；缓冲剂硼酸主要以 B(OH)3 的形式存在，最佳 pH 缓冲范围为 8~10， 3+ 3+ 而 Al 最佳的 pH 缓冲范围为 3~3.5。加入 0.6 mol/L Al 使铬镀层边缘和中心厚度之比(hcorner/hcenter)从 11 降低至 2； 3+ 而加入 1 mol/L 硼酸仅使 hcorner/hcenter 从 5 降低至 3，Al 改善镀层均匀性的作用更为明显。 关键词: 镀液组分；三价铬活性络合物；电镀速率；镀层均匀性 中图分类号：TQ151.8 文献标志码：A 六价铬电镀因环保问题受到限制，三价铬绿色电 E1-SHARIF 等[9]则认为有机酸可以阻碍羟桥化合物的 镀技术备受关注。1854 年，人们最早从三价铬溶液中 形成，从而促进 Cr(Ⅲ)的电还原。ZENG 等[10]证实在 [1] 3+ 电沉积金属铬的研究 。然而，由于六价电镀技术的 简单的三价铬溶液中，三价铬离子以 Cr(H2O)6 形式 快速发展，直到 1974 年，才开发出真正实用化的 存在，通过与配位剂的络合反应生成具有电化学活性 [2] 3+ [11] Alecra-3 氯化物三价铬电镀工艺 。1981 年，英国研 的 Cr(H2O)5L 。HE 等 在离子液体体系研究了三价 究者开发了硫酸盐三价铬电镀工艺[3]。至 20 世纪后期， 铬的电化学还原行为。 三价铬电镀工艺得到迅速发展。2003 年，MacDermid 三价铬镀液主要由主盐、络合剂、缓冲剂、导电 公司推出了硫酸盐三价铬电镀液 MacDermidⅢ，使电 盐和添加剂等组成，其中络合剂和添加剂