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两大公用系统的维护及管理
制药GMP两大系统的 管理和维护;介绍内容;1.1厂址的选择和外围环境要求;1.2 洁净区的概念;1.3洁净区的要求;1.4净化系统的主要组成;1.5空气送风回风系统(1);1.6空气送风、回风系统(2);1.7净化空调新风、换气量;1.8洁净室空气洁净度级别表;1.9洁净区环境的污染源;1.10空气净化处理(控制微粒污染);1.11净化系统的核心-过滤器;1.12净化系统的三级过滤;2.1净化空调系统日常维护;2.2对进入洁净区人员的管理(1);2.3对进入洁净区人员的管理(2);2.4对洁净服的管理;2.5对进入洁净区物料的管理;2.6对洁净区内设施等清洁要求;2.7对洁净区内工艺用气管理;2.8洁净区的清洁卫生管理;2.9洁净区的日常监测;2.10洁净室的监控参数;2.11高效过滤器检漏;2. 12洁净室日常监测维护方法简介(1);2.13洁净室日常监测维护方法简介(2);2.14洁净室日常监测维护方法简介(3);2.15洁净区日常监测维护方法简介(4);
;3.2工艺用水???分类原则;3.3工艺用水管理基本要求;3.4制水工艺过程;3.5工艺用水日常维护要求简介;3.6如何控制工艺用水污染;3.6.1纯化水系统配置原则 ;3.6.2注射用水系统配置原则;3.6.3工艺管路的安装原则;3.7四种方法截留水中污染物质的对比;3.8工艺用水监测仪器和配套介质;3.9制水流程关键点 (1);3.9制水流程关键点(2);4.1工艺用水的合理取样;4.2工艺用水系统的维护监控(1);4.3工艺用水系统的维护监控(2);4.4工艺用水系统的维护监控(3);4.5纯化水和注射用水的质量标准变化(05版与10版);
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