对集成电路用硅抛光片局部平整度的研究(1).pdfVIP

对集成电路用硅抛光片局部平整度的研究??，??李科技鄣体强??????Ⅵ，??】引言?????????珻????笏姑俚缬璨氖骷冠艄?茫?逖????觥抛光懿’关键几何参数——硒郝擎蹩废???的研究．从醚?∈础⒀鞪??莉漶流、宵盎菏??』?嘶?⒒?蹬注艄恚??????琇?????????．随蒋半坶体。?撼诘姆伤俜⒄埂Ｎ!璻提?蔚缏返募?啥龋?呵蠊饪滔呖硭以嚼丛较福?澄」枧坠馄?熟?的优劣．对器件与豢成电路的电学性能翔成品率有蒋檄其煎褒朗影响。这主耍魁出乎光剡机的然深燮褥越来越娥。硅熬底或游膜塌一菱掀其微小的豳艘藏辫都会使?的稚线网彤笈生变形、瓤曲、错位，结袋镣致绝缘缀的绝缘能力达不到要求。或金属适线错乱聪渤现废品?????航概坠馄???尺嫡斩人?岣裨蝽??碌?路必效的缀罄??剿之一～。为满足现代微处理嚣和其他逻辑芯片蘩求，增火：醛片产爨，降低蚺元制造成本，婺墩醴片的畿?海还瓴欢?增犬。??颦．崩际。?背膳萋分圃旒际跻丫?缛胩卣飨呖???贝??褂昧雌?凭????５??沓埃?砖材料，’寐丽亩，围于种种因索的影响．能够犬批鬣生产的最火鬣径硅片仪钳???．晰???裕瓻直径硅片尚未彤成规模。所以本文结念企业生产现状，潜，瓣介纲???枧坠釱‘同鄢平夔发的改善。摘要：隧际。匕聚成电路涮遗已经使翊???拗洹??刁禾啬飨咝???南駄“技术，?对网内挂搴斗??蒡洗溃??够火批徽?产的缀太随经醚片仅韵‘??、??以￡随锓磁”咂?警强钕赖遴翻。本嶷豁羲介铡对攥?靰?????对与泛稠篾的各个?筘避衍细致研傲。综合分析各研张锚聚，窿燎肖撼础。??蕉韵?骥?跋斓耐趸郾苋煊呕??秩谢铭到嶷：翻?胛?骋谎系宸⒌捻移补馄??荚键词：醚盼：抛光；麟部半鼹艟：铤成电路????????烈??????幽?????????住蠢简介伞科技．弱．举”量：．助理?呤Γ?燮髊?小?苕拇幽?ざγ哑?幕??籰；??蹬锥礗侔????：?酢辏?嵝??悖海?暌觥?????：?????????畂??????????琁??????????????????，???妇???，?????????琧????????????瓵??????甪???????：????????????琁????? 跋炀植科秸?鹊囊蛩???硅片腐蚀造，往投入极低的情况??构猩梵谰呦黵花赡公转的新功毹．?随即柯?黄菩缘慕?埂?影响局部平按艘豹闲索很多，包掭切割片、研鹰片、腐蚀片的质爨，贴片和抛光?艺水平等．所以挺蒜硅抛光膪周龆甲鹩度蟹从提躏叨?敝树?胧郑?俊?骞つ露妓绨醇际跆跫?G蠼?衛舶。本雌能宥多譬的生产实践经验，多道■瞪置艺已经十分成熟，本浚仪就尚露较大潜力诃挖的腐蚀、贴蛸‘和抛光。?蚪?踟⊙?究。醚”我切片、研磨游机械加，：??方恚琭?’?壕Ц癖茇崞苹淀柃燮漪胕??纬梢欢ㄉ疃鹊亩奚祟ィ??吹?主婴隧的就楚求潲除这个缀伤胺，通常蒙?粆：?姆椒ㄖ??撬徨魇础Ｊ导?っ鳎焊?聪说幕罂缍绕ú铌???越小，越剥?号坠鈌?的局部平整艘，丽陵黼蚀的缺点之一就是淡颟平域艘菠，控制不好易星枕形，即周嘲簿中州?坌巫磒?Ｎ颐茄芯康年?木挽樟弥颇有危?玊?饿降到墩低。为Ⅳ『消除枕形缺粥，溉簧使硅片巾心和边缘的腐蚀逮率?致，馋我们冈滩的正岂跫硅片牲诧链。?灰恍?#?而挖激本身并不转动．从渐戎“一定棵艘卜影响硅片腐蚀矢除的均匀挫。阑外已宙捆荚厂家殍发蝎即能?：链片翻转叉麓让诧簸公转的??浮ｗ图鄹瘛辈贩钟凰印！耙话闫笠担?头ǔ惺埽??憩我们决宠自盼改装。通过研究瓷进没备的。】。：作原琏，结合现有设鍪实断情况．经过技术人员的不懈努力，终?究成了对咽设备的升级改时酸腐蚀的溺??：艺改进怒调节黢腐蚀液中乙酸的比例。常用豹酸腐蚀液怒融不同比例的稍陵、氯氟陵翱己酸组成。而己骥作为缓冲削骐有调“箝腐蚀速率的藤耍作用。闷??的配比对于较小盥经硅片．如????和???．矮??刑誓芙邮埽?逡丫?诲邈???．所以必须澈进。缀反复测试，我们姆己酸调撼到?个极小的范围，在此范嗣内。腐蚀速攀桐当稳定，进～步加强了对腐蚀工艺的控制。黼蚀反成潞艘和时湖也艇影响腐蚀片质鼹的关键参数，怄小谯本次改进范阻之????阶甘觥?腐蚀?阂盏靼词????雅坠馄?植烤?佣雀慕?墓较字┖所示。圈?饔吧我蛩赜呕?蠖???硅抛光片局部平整度改进的贡献 有蜡贴片选择调节。通过对这熙掺数进行?氏秆芯俊⑹钥ァ⒍詝：?埃?蛑杖范ā２芬惶妆冉媳缪Ш侠淼耐框齘?褐ィ?褂???化学机械抛光鬣轻为???菲?！ｊ?暗?着坠舛辔5ッ媾坠猓?匠＠赖奶??问接形蘩????陀??綡术‘两种．随无蚺贴詹最大的问题就是忑法得到搬低的憨厚度偏麓和局部乎糕度，所以本节强对有娥鼢片??踅?许?究。有螨酗?篒?帐?指丛樱?跋煲蛩鞲?啵????闹昼堋⒗?ず窀埂Ⅱ?揖?刃浴⒐柘??桷实膇；警滔度、陶瓷扳的平整度???奥?宥取⑻?肝露群臀?佑呖漳У缺