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胡奈赛
第 卷 第 期 无 机 材 料 学 报 ,
年 月 ,
文章编号 一 一 一
离子束 增 强 沉积 界 面 共混 工 艺 对 一 镀 层 结 合 强 度 的影响
唐 宾 , 李 咏梅 , 胡 奈 赛
太 原 理 工 大 学表 面 工 程 研 究 所 , 太 原 西 安 交 通 大 学金 属 材 料 强 度 国
家重 点实 验 室 , 西 安
摘 要 采 用 连续压入法 以 及球滚接触疲劳法评定 不 同界 面共混 工艺所制 一 镀 层 膜基 结合
强 度 , 并对两种方法试验结果进行分析对 比 试验结果表 明 , 在 其它参数相 同条件下 , 随着氮离
子轰击 能 量从 、 提高 到 , 动反 冲共混 界 面 结合强 度则有 明显 降低 的趋 势 ,
值测 量值分别 为 、 、 当轰击能 量 为 、 时 , 一 镀 层 在 △几 二
时 , 循 环 疲 劳周 次达到 “ 时 , 镀 层 未 剥 落 , 表 现 出很高 的动 态 结合强度 , 而 动反
冲共 混 界 面在 △几 时 , 循 环 疲劳周 次仅为 ” 较低 能量 、 氮离子
动 态共混界 面具有更理 想 的膜层 一 基体结合强度 两种方法测试结果具有 一致性 当膜 层 一 基
体结合力较 高 时 , 压入法评定膜 层 一 基体结合 强度更简便 、 适 用
关 键 词 离子束增强 沉积 膜 层 一 基体结合强 度
中图 分类号 文 献标 识 码
引言
根 据 界 面 共 混 原 则 以 及 离 子 注 入 理 论 , , 较 高 能 量 的 离 子 在 界 面 处 具 有 更大 的平 均
投 影 射 程 , 使 膜 层 一 基 体 共 混 区 充分 展 宽 , 提 高膜 层 一 基 体 结 合 强 度 简 称膜基 结合强
度 文 献 , 研 究 还 表 明高 能 离 子 动 态 反 冲共 混 , 的界 面 混
合 比 静 态 反 冲共 混 , 更 为 充分 , 是 离 子 束 增 强 沉 积
印 , 镀 层 制 备 过 程 中常用 的界 面 制 备 方法 研 究结 果 表 明 , 随 氮
离 子 轰击 能 量 的提 高 , 动 反 冲工 艺 不 但 造 成 试 样 表 面 粗糙 度 提 高 , 而 且 由于 溅射作用
使膜 基 界 面 形 成 成 分偏
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