纳米硅通道内滑移现象的分子动力学模拟.pdfVIP

中国工程热物理学会 传热传质学 学术会议论文 编号：093446 纳米硅通道内滑移现象的分子动力学模拟 顾骁坤，陈民 （清华大学工程力学系，北京 100084） (Tel:010 Email: mchen@tsinghua.edu.cn) 摘要：采用分子动力学方法研究了水在硅通道中的Couette 剪切流动，得到了通道内流体速度分布。考 察了壁面吸附气体以及带纳米结构的硅表面上的流动情况。模拟表明气体层以及微结构的存在可以改 变硅表面的滑移性质，进而可以通过在壁面加工纳米结构以及在通道中充入气体来改变和控制纳米通 道内的流体输运。 关键词：亲水表面 气体层 滑移长度 分子动力学 0 前言 “速度滑移”是指流体在固体表面流动时流体和表面之间在界面处的切向速度差。 当流体流动和表面的切向速度相等时，即为传统流体力学中采用的无滑移边界条件。但 是随着实验技术的进步，可以发现速度滑移现象是普遍存在的[1, 2]，尽管在常规尺度下 这种速度差的影响完全可以忽略。但是在微纳米尺度，这种界面效应将对流动产生极大 的作用。因为当系统尺度大大减小之后，系统的面体比大幅增加，表面力从而成为支配 流动的关键因素，这大大增加了流动阻力。而滑移的存在却能改善系统的流动性能，因 此如何控制表面的滑移性质是一个非常有意义的课题。 [3] [4] [5] 研究表明，流体和壁面材料的种类 、流动的剪切率 、壁面的粗糙度 等都会影响 滑移性能。此外流体-固体界面上存在的气体层也可能会起到润滑的作用，从而对流动的 边界条件产生一定的影响。特别是对于疏水表面，溶解在水中的气体会自发的吸附到其 表面，形成水和固壁之间的低密度层，促进水在壁面的滑移[6]。在过去的 10 年中，人 们对疏水表面以及超疏水表面[7]在微流动、表面清洁等中的潜在应用非常感兴趣。但是 对亲水表面的研究不太重视，一些关键问题还没达成共识，比如，流体和表面为亲水性 时是否有速度滑移的发生。因此有必要专门研究一下亲水壁面的速度滑移性质以及气体 层、壁面结构在速度滑移中的作用。 本文应用分子动力学方法研究了水在硅表面上的流动情况，目的在于：1）利用分 子动力学模拟微流动现象，分析硅这种微电子工业常用材料的滑移性质；2）探讨纳米通 道中气体层对速度滑移性质的影响；3）研究带结构的亲水材料上的滑移现象。 1 分子动力学模拟 1 模拟的纳米通道内液体的Co uette 流动系统如图1 所示。图中黑色原子为以硅为模 型的固体壁面，两壁面都平行于xy 面，x , y 方向采用周期性边界条件。红色与白色原 基金项目：国家自然科学基金项目（No） 子为液态水。下壁面静止，而在上壁面以速率U 沿x 方向运动的作用下，通道内的液体 形成Couette 剪切流动。 水分子之间的相互作用采用使用广泛的SPC/E 势能模型，即：  12 6      q q U 4ε σ =− σCO + i j ab     ∑∑  r r  i j r ∈ ∈ OO OO a b ij      等式右边第1