真空镀膜调研技术总结.pptVIP

真空镀膜调研 李林 2014.3.3 真空镀膜：在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发（或溅射），使其沉积在被涂覆的物体（称基片、基板或基体）上的方法。 真空镀膜亦称干式镀膜，与传统的湿法镀膜相比具有如下特点： 真空制备、环境清洁，膜层不易受污染，致密性好、纯度高、膜厚均匀。 膜与基体附着力好，膜层牢固。 不产生废液，避免环境污染。 真空镀膜 薄膜制备方法 真空蒸发镀膜 真空蒸发镀膜法是在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到基片表面，凝结形成固态薄膜的方法。 电阻式蒸发镀膜 蒸发源是真空蒸发镀膜机的关键部件，根据蒸发源的不同可将真空蒸发镀膜分为以下几种： 蒸发源 电子束加热式 电阻加热式 感应加热热 激光加热式 蒸发源 电子枪 加热电阻 高频螺旋线圈 大功率激光器 优点 可蒸镀高熔点膜材，蒸发速率快，膜材不受容器污染，可蒸镀高纯度薄膜。 结构简单、造价便宜、适合大批量生产。 蒸发速率大（电阻式10倍），温度均匀。 可蒸发高熔点面膜材，激光器只能装在真空室外，对薄膜污染少。 缺点 电子枪造价较高. 所镀膜材熔点不高，膜层质量不高，电阻丝寿命有限。 蒸发装置必须屏蔽，需要高频发射器。 打功率激光器价格昂贵。 电阻式蒸发镀膜 电阻式蒸发镀膜 采用钽、钼、钨等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料，让电流通过，对