MLLC900客户培训文档-原理剖析.pptx

MLL-C900客户培训资料;Contents ;产品原理;CFMM曝光原理;;对焦原理;对焦原理;对准原理 1.手动对准：非曝光波长直接成像曝光图形，通过stage移动使得与上一层图案对准成为可能。;2.MVA机器视觉对准;系统维护及安全事项-----系统维护;软件方面 1.使用人员不得自行连接因特网，避免中毒。使用人员使用移动设备拷贝时，应事先确保自己的U盘是无病毒的。 2.使用人员对于自己不熟悉的内容不要随意删除。电脑的内容会由工程师定期进行备份和处理。;机械方面 1.使用人员禁止用手长时间按在花岗岩平台上，以免对VIT造成损伤。 2. stage 维护： 2.1设备断气状态下，平台处于保护锁定状态，不可用力推动平台移动导轨，以免造成设备损坏； 2.2设备使用时必须保证同时提供压缩空气和真空，并且保证达到规定范围。 2.3设备运行状态下，平台位置处于锁定状态，此时不可给平台施加推力或旋转外力； 2.4平台需要定期清洁，避免异物损坏平台，推荐使用湿度为60%以下。;光学方面 1.光刻机的光路系统是经过精心调试，任何人绝对不允许自行调整光学件。 2.对于高倍镜头使用和操作时，注意Z轴升降不要碰到镜头。 3.更换 镜头时，禁止用手触碰镜头表面，并注意曝光时使用的曝光镜头参数。 ;电气方面 1.光刻机主体中的各种线缆，电路板和控制设备，请不要触碰，避免静电对设备造成损害。 2. 为了保护镜头，设备设置了软件限位。在设备运行前，需要确保限位处于工作状态。;系统维护及安全事项-----安全事项;紧急停电方案和限位关机后的开启 1.停电： 1.1 一旦发生停电事件，请拔掉与光刻机相连的净化电源，洁净风开关一直保持开启状态。 1.2来电后，连接好净化电源，按正常步骤开机即可。 2.硬件限位保护/气压保护： 当遇到硬件限位/气压保护时时，Stage将被锁定,故障排除后,气压限位自动解除,硬件限位则可以打开Stage自带程序,解决限位保护。 3.“EMO”关机： 使用EMO后如要重新开启光刻机，注意先将EMO旋开，否则系统将处于紧急关闭的状态，无法开启机器。 ;Schedule ;系统标定------软件自动标定;系统标定------曝光工艺标定1.E0标定;系统标定------曝光工艺标定1.E0标定;2.镜头放大倍率标定;2.在CFMM曝光软件中设置曝光recipe,其中X方向chip的step为DX,Y方向chip的step为DY,导入图1完成曝光。 3.通过量测设备测量曝光得到的图形中，沿X方向移动曝光图形小框与大框中心X方向的实际偏差ΔX和沿Y方向移动曝光图形小框与大框中心Y方向的实际偏差ΔY，如下图。;4.计算镜头X和Y方向的实际放大倍率MX’和MY’;3.DMD与STAGE的正交平行性标定;3.通过量测设备测量曝光得到的图形中，沿X方向移动曝光图形小框与大框中心Y方向的实际偏差ΔY和沿Y方向移动曝光图形小框与大框中心X方向的实际偏差ΔX，如下图。 ;4.计算X方向和Y方向的角度偏差ΔθX和ΔθY;打开数据服务器 stepper server 以及scanning server