国内多晶硅冷氢化技术应用研究.pdfVIP

学兔兔 第42卷 第2期 化 工 技 术 与 开 发 Vo1．42 No．2 2013年2月 TechnologyDevelopment of Chemical Industry Feb．2013 国内多晶硅冷氢化技术应用研究 张正国 ，欧昌洪 ，陈广普 ，吴建波 ，龚波林 f1．国电宁夏太阳能有限公司，宁夏 石嘴山 753200；2．宁夏大学化学化工学院，宁夏 银川 750021) 摘 要：重点介绍了多晶硅生产中冷氢化技术的发展历程和基本原理，对冷氢化技术进行了详细的阐述，列出 了目前国内企业应用冷氢化技术后表现出的较优的技术、经济指标。同时，还比较了冷氢化、热氢化技术的优缺点， 分析了当前国内冷氢化技术在应用上面临的问题及解决办法，并指出了未来冷氢化技术的发展方向。 关键词：多晶硅；冷氢化；应用研究 中图分类号：TQ 127．2 文献标识码：A 文章编号：1671—9905(2013)02—0028—03 冷氢化技术是多晶硅工业中一种新兴的技 表1 国内应用冷氢化技术的多晶硅企业情况 术[1】，主要方法是把多晶硅生产过程中的副产物 建设时 公司 冷氢化运 多晶硅产 技术来源 SiC1 (缩写为STC)转化为SiHC1 (缩写为TCS)的技 间年 名称 行状态 能／t·a (设计公司) 术l 。众所周知，多晶硅生产过程中的副产物SiC1 产量大，易挥发，存储、运输、处理都十分危险，是一 种易燃、易爆而且腐蚀性和毒性都很强的危险化学 品[31。 受欧债危机和美国次贷危机影响，自2010年以 来，光伏产品市场不断萎缩，多晶硅价格不断下降， 多晶硅生产企业利润空间不断被压缩。成本较低， 节能环保的冷氢化技术受到国内多晶硅企业的重 视。随着冷氢化技术的不断完善，国内多家多晶硅 企业冷氢化工艺已经投入运行，并取得可喜成果，以 前几乎没有市场的废弃物SiC1 在市场行情的推动 下身价倍增，每t已经达到2000元以上。 年获得批准，专利有效期2O年[4-5]o冷氢化技术的 当前国内外生产多晶硅的主要方法为改良西门 发展经历了以下几个过程： 子法，是根据化学气相沉积原理生产多晶硅的技术， (1)1948年，美国联合碳化物公司的分公司林 该技术最重要的特点是实现了多晶硅生产的闭路循 德气体公司为了制备有机硅，在世界上最先开发了 环。但是改良西门子法在副产物四氯化硅处理上 冷氢化技术，是以该技术先制备SiHC1 ，然后生产有 采取了热氢化工艺，热氢化工艺是在高温下SiCl 与 机硅。1950年到1960年，林德气体公司最先在西 H’反应生成SiHC1 的过程，该过程为吸热反应，耗 维吉尼亚建立了一条以冷氢化技术生产SiHC1 的 能量大且转化率低，一般为1 5mo1％～20mo1％。 生产线。同时，他们发现使用合成法(si和HC1反 2 冷氢化技术的发展历程 应生成TCS)更经济，于是