低铬酸 一硼酸型电解液镀铬工艺.pdfVIP

一 低铬酸一硼酸型电解液镀铬工艺 万里无线电厂 墓皇垂 一r f tI7 · 文摘 铬酐和氰化物同被列为一类污染物，同是电镀行业的一大公害，但镀铬又 是一个不可缺少曲镀种，为此必须探索危害较少的镀铬新工艺。关于 低铬 镀铬的 工艺研究很多，但大多是采用氟化物作催化荆，氟化物也有严重危害，现研究采用 ‘ 硼酸为辅助催化剂的 低铬 工艺，与 高铬 工艺比较，铬酐用量减少76％；电流 效率可高出3，2％；沉积速度则高出22％镀层硬度：中心点高出25％；边角区商出10％； 边缘效应厨；覆盖齄力较好；其它，如锭层外观、结合强度相当；操作工艺元差异。 、 √ 主题词 篮簦 焦塞 望墨垄刿 镀铬是电镀行业 中的一个主要镀种．在电镀 是铬酐的浓度与某些阴离子活化剂 的浓度的正确 生产中占有重要地位．但从 电解镀铬 同世 以来， 比例是获得 良好镀层和高生产率的首要条件． 所有的镀铬 电解 {茛的铬酐古量程高，一般在 250 1_2．1 铬酐 铬酐 (oo，)是金属铬层 的来 以上．据报导，由于工艺及操作等原因，镀铬 源．在镀铬藩菠中铬酐中的六价铬主要 以铬酸和 过程中仅有 lO～∞ ％ 的铬酐用于析出金属铬， 重铬酸两种形式存在 ． 丽其余的Bo～9O％韵铬酐都损失在排风与洗涤 0O，+H1O H1crq 承中，速不但直接危害操作人员的身心健康．而 2CIO ，+H，O—E Cr，O， 且随着废水废气 的排 出，会对环境造成严重污 从试验得出低铬酸镀铬溶液 中铬酐的浓度 以 染．大范围地危害广大人民和工农业生产． 60～ 75 为宜，低于 50％后易产生黄膜．复 为此，开展了低铬酸盐镀铬 的工艺研究．现 盖能力下降，溶液的稳定性变差，铬酐浓度高对溶 将所得的比较理想的低铬酸一 硼酸塑电解液镀铬 液的稳定性有好处．但随之而来 的是前面 已经指 工艺予 以介绍 ． 出的若干缺点． 1．2,2 硫酸 加人硫酸是为提供 一定置 的朋 离 1 电解液 子，投有阴离子存在就镀不 出金 属铬．试验证 明．低铬镀铬和高铬镀铬一样 ．其硫酸 古量为 I,I 电解液的配方及镀铬工艺规范 铬酐的 1％ 即0．6一n75 ，硫酸古量增高则深 铬酐 CtO， 65～75 镀能力随之降低 含量过低则镀层发暗，光泽降 硫酸Sso4 0．65～ 0．75 低．有时还台产生土色薄膜或轻镦的深蓝膜斑． 硼馥 B0】 14～l6 1．2．3 三价铬 镀铬过程中没有三价铬不可能镀 三价铬C q I．2～I．6 g／l 出光亮的金属铬层．低铬 和 。高铬 一样 ，应维 温度 50±l℃ 持 1．2—1,6g／l的三价铬．三价铬吉置高，镀铬 电藏密度Dl 25～ 35 A／d 液的复盖能力也高，但过高则边缘效应增强，镀 明 陌极面积 比 1：2 层的边角易被烧焦．镀层 的外观色泽发灰 ．出现 1．2 电解液晷成分的柞用及古最 黄膜 ． 低铬酸一硼酸