电子级多晶硅生产中氯硅烷精馏工艺的设计和优化.pdf

学兔兔 周齐领等 电子级多晶硅生产中氯硅烷精馏工艺的设计和优化 II 电子级多晶硅生产中氯硅烷精馏 工艺的设计和优化 周齐领 张晓辉 中国成达工程有限公司 成都 610041 摘要 比较目前多晶硅生产中氯硅烷精馏的国内传统工艺和引进国外工艺；通过研究和借鉴，结合 专家意见并进行模拟计算，设计和优化氯硅烷精馏工艺；简化流程，降低能耗，减少精制三氯氢硅中的杂 质，从而提高多晶硅产品的品质。 关键词 多晶硅 精馏工艺 优化 目前国际上多晶硅生产的主要工艺有：改良 1 国内传统精馏工艺 西门子法、硅烷热分解法和流化床法 。其中 改良西门子法工艺的产能约占世界总产能的 我国早在20世纪50年代开始电子级多晶硅 80％ L2， 国内传统的多晶硅生产工艺也采用改 的研制，60年代中期开始批量生产，但生产工艺 良西门子法 。 和设备严重落后，产品质量不稳定，各种消耗指 改良西门子法又称闭环式三氯氢硅氢还原 标高。基本上采用国内传统的西门子法工艺，对 法_l J，是通过工业硅粉与气态氯化氢的合成反 合成氯硅烷进行简单一级粗馏后，将分离出来的 应，生成由三氯氢硅、四氯化硅和二氯氢硅组成 粗三氯氢硅进行两级精馏，得到用于还原反应的 的氯硅烷混合物，其中还含有聚氯硅烷、金属氯 精制三氯氢硅；对还原尾气冷凝液 (氯硅烷) 化物及硼磷氯化物等杂质，需进行精馏提纯，得 及氢化尾气冷凝液 (氯硅烷)也进行两级或三 到高纯度的精制三氯氢硅；精制三氯氢硅在还原 级精馏，得到精制的三氯氢硅循环利用。精馏一 炉内进行化学气相沉积 (CVD)反应生产高纯 多晶硅，还原尾气中的氯硅烷混合物再经过精馏 般采用60块塔盘的浮板塔。由于精馏级数少， 分离循环利用；副产的精制四氯化硅在氢化炉内 又没有其他补充方法，精馏的效果有限，只是简 与氢气反应，生成氯硅烷混合物也通过精馏分离 单地将三氯氢硅、四氯化硅、二氯二氢硅分离， 循环利用。 对于三氯氢硅中的杂质，尤其是硼和磷的脱除效 可见，在整个改良西门子法生产流程中，合 果并不太好，直接影响到所生产的多晶硅的品质。 成反应工艺、还原反应工艺和氢化反应工艺是实 现化学反应的部分，而精馏提纯工艺才是实现提 2 引进俄罗斯精馏工艺 高三氯氢硅纯度的关键。 自本世纪初，国内已有新光硅业、宜昌南玻 电子级多晶硅的特点是纯度高，其纯度级 等几家厂商从俄罗斯引进用改良西门子法生产多 别l3 J：受主杂质的原子分数仅为5×10 ，施 晶硅的工艺技术，有的已投人生产。根据对引进 主杂质的原子分数为15 X 10 。将氯硅烷