液位沉降法制备ITO薄膜及其光电性能研究.pdfVIP

北京石油化工学院学报 第 21卷 第 4期 Vo1．21 NO．4 JournalofBeijingInstituteof 2013年 12月 Dec．2O13 Petro—chemica1Technology 液位沉降法制备 ITO薄膜及其光 电性能研究 周 洋 ，武光明 ，殷天兰 ，丁 尧 (1．北京化工大学 ，北京 100029；2．北京石油化工学院，北京 102617) 摘要 ：采用 自制 的液位沉 降制备薄膜装置在普通玻璃衬底上沉积 了 ITO薄膜 ，并对实验条件进行 正交设计 以考察制备 ITO薄膜的最优条件。结果表明，采用液位沉降法成功地制备出ITO薄膜。该装 置结构简单 、操作方便 。影响 ITO薄膜光 电性能的主要 因素是镀膜层数 ，在进行的实验 中，制备 ITO薄 膜 的优化条件为 ：注射 回抽速度为 2．5cm／min，膜层数为 2O层 ，装置倾斜角度为 3O。，在 300℃下预处理 5min，500℃下退火处理 2h，得到的薄膜 的透光率为 88．3 ，方块 电阻为 970n／口。 关键词 ：液位沉 降；IT0薄膜 ；光 电性能 中图分类号 ：TB43 文献标志码 ：A 掺锡氧化铟 (Tin—dopedindium oxide，简 能进行分析，考察 了注射 回抽速度 、镀膜层数以 称 ITo)是一种 n型半导体材料 ，其导电率 、对 及装置倾斜角度等 因素对 ITO薄膜性能的 可见光透过率和红外反射率都较高 ，并且具有 影响。 优 良的机械强度和化学稳定性[1]。ITO薄膜 1 实验 在许多领域都有广泛应用 ，如电子器件 、信息以 及光学领域 。在电极材料 、红外反射膜 以及传 1．1 实验装置 感器等器件制造领域都能用到 ITO薄膜的这 液位沉降法制备 ITO薄膜的实验装置如 些特性_2]。另外 ，ITO薄膜可以用于硅基太 阳 图 1所示。装置主要 由两部分组成 ：一部分是 能电池 的制造和研究_3]，由于其对于微波 的强 注射回抽系统 ，由注射 回抽泵和注射器组成；另 衰减性能 ，可 以在电磁屏蔽玻璃 的制造方面发 一 部分是液位沉降系统 ，主要 由沉降装置和温 挥很大的作用 [4-5]。 控系统构成 。图 1所示 的倾斜角可 以调节 ，同 ITO薄膜 的制备方法可分为化学法和物 时注射和 回抽速度以及加热温度均可调节 。 理法，较常用 的有喷涂法 ]、真空蒸发法_7]、磁 控溅射法[8]、溶胶凝胶法口 、脉冲激光沉积 法… 等。上述方法镀膜时的实验条件往往要 求很高 ，例如真空氛 围、靶材制作等，导致镀膜 成本较高 ，因此 ，目前人们仍在继续寻找 ITO 薄膜新的制备方法。 笔者采用 自制的液位沉降装置在玻璃衬底 上制备 ITO薄膜 ，以紫外一可见光分光光度计 (UV—Vis)、四探针 阻抗分析仪 、x射线衍射 (XRD)、原子力显微镜 (AFM)等手段对所制得 的 ITO薄膜 的晶体结构 、微观形貌以及光电性 图 1 液位沉降法制备 ITO薄膜装置 收稿 日期 ：2013-04—16 1．2 ITO前驱液的配置 作者简介 ：周 洋 (1988一)，女 ，硕 士研 究生 ，研 究方 向为 ITO纳米材料 ，E—mail：z529y@163．com。 按一定比例称取适量