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BDD薄膜电极电化学氧化降解低浓度茜素红
学兔兔
化 工 进 展
20l4年第33卷第 1期 CHEMICALINDUSTRYAND ENGINEER1NG PROGRESS ·233 ·
新型多孑LTi/BDD薄膜电极 电化学氧化降解低浓度茜素红
周如彬 ,冉二燕2,孙见蕊 ,张德文 ,张宝昌
(长春工业大学化学与生命科学学院,吉林 长春 130022; 长春工业大学化学工程学院,吉林 长春 130022)
摘要:运用热丝化学气相沉积 (HFCVD)的方法制备了以多孔钛为基体的掺杂硼金刚石 (porousTi/BDD)薄膜
电极,并测试了它的主要物理性质,SEM 表明金刚石相生长 良好并且能均匀地分布在基体表面和孔内,Raman
光谱表明电极的金刚石相纯而且质量很高。采用循环伏安法研究了酸性条件下茜素红在多孔Ti/BDD电极上的电
氧化行为。通过改变阳极电流密度、支持 电解质Na2SO4的浓度来研究茜素红在多孔 TiB/DD电极上的电化学氧
化降解的效果影响。结果表明:电流密度 40mA/cm2、支持电解质浓度0.5mol/L为较理想的工艺参数,总电流
效率达到 30.2%。在相 同条件下,发现多孔Ti/BDD薄膜电极氧化降解茜素红与平板 Ti/BDD薄膜电极相比具有
更高的电流效率。紫外可见光光谱证实了多孔Ti/BDD电极能够有效地电氧化降解茜素红。
关键词:多孔钛;掺杂硼金刚石薄膜电极;茜素红;电化学氧化
中图分类号:O646.51 文献标志码:A 文章编号:1000—6613(2014)01—0233—06
DoI:10.3969/j.issn.1000.6613.2014.O1.042
NewporousTi/BDDfilmelectrodeforelectrochemicaloxidationAlizarin
Redatalow concentration
ZHOURubin ,RANEryan ,SUNJianrui,ZHANGDewen ,ZHANGBaochang
(SchoolofChemistryandLifeScience,ChangchunUniversityofTechnology,Changchun130022,Jilin,China:
SchoolofChemicalEngineering,ChangchunUniversiytofTechnology,Changchun130022,Jilin,China)
Abstract:BorondopeddiamondfilmsonporousTisubstrateswerepreparedbyhot—filamentchemical
vapordeposition(HFCVD)anditsmainphysicalbehaviorswerestudied.SEM analysisshowedthat
diamondphasecangrow wellanddistributedon thesurfaceandtheholeofthesubstrate.Ramen
spectroscopyshowedthattheelectrodehadapureandhighqualitydiamondphase.TheAlizarinRed
electrochemicaloxidationbehaviorhad been sutdied withporousTi/BDD electrodeunderacidic
conditionsby cyclic voltammetry.The effects of electrochemical oxidation degradation were
investigatedbychangetheanodiccurr
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