基于阻抗特性分析的电磁层析成像传感器优化.pdfVIP

2016年 第35卷第3期 传感器与微系统(TransducerandMicrosystemTechnologies) 49 DOI：10．13873／J．1000--9787(2016)03--0049--04 基于阻抗特性分析的电磁层析成像传感器优化 付 妍，谭 超，肖志利，董 峰 (天津大学 天津市过程检测与控制重点实验室，天津300072) 摘 要：设计一种与电磁层析成像 (MIT)系统的工作频率相匹配的传感器阵列对于提升图像重建的精度 至关重要。针对MIT传感线圈结构，研究了频域内线圈结构参数的变化与其阻抗的对应关系，包括线圈 匝数和线圈直径。实验结果表明：增加线圈匝数或扩大线圈直径均会导致线圈阻抗响应曲线向着频率较 低的区域平移。在设计 MIT传感器时，为了使得优化后的线圈结构与 MIT系统的工作频率能够有效匹 配，需要协同考虑线圈不同结构参数引起的效应。 关键词：电磁层析成像；阻抗分