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　　光学工程论文开题报告模板 　　开题报告包括综述、关键技术、可行性分析和时间安排等四个方面，以下是一篇关于光学工程论文开题报告模板的范文，供大家参考，希望对大家有帮助! 　　论文题目：磁流变抛光液的研制及去除函数稳定性研究 　　一、选题背景 　　随着现代科学技术的发展，光学系统和光学元件已广泛应用于空间相机、空间目标探测、航空相机、医疗设备、跟瞄设备、光刻系统当中[1-5]。由于非球面光学元件在不增加独立像差数的前提下增加了自由变量个数，明显改善了光学系统的成像质量，同时，在同等约束条件下，减少了光学元件的数量，降低了光学系统的尺寸和质量，因此，广泛应用于现代光学系统当中[6,7]。高精度非球面光学元件制造技术一直是光学制造的难点和热点，尤其是离轴非球面的制造技术更是公认的瓶颈技术。传统加工方式随着加工过程的进行，磨头会出现磨损，导致磨头与加工元件变得不吻合，去除效率也会发生变化，去除函数不够稳定，导致过程的不可控，甚至导致面形的不收敛和加工的反复，传统加工方法已经无法满足日益增长的高精度非球面应用需求[8-10]。作为新一代光学加工技术，磁流变抛光技术具有去除函数稳定、材料去除效率高、加工过程可控、抛光后的面形精度高等特点，可以满足非球面加工需求。但是，由于外国对磁流变抛光关键技术和设备引进的封锁，国内迫切需要突破关键技术，从基础上掌握磁流变抛光技术，使其在实际工程当中得到广泛应用。 　　二、研究目的和意义 　　本文通过开展对磁流变抛光液配制、循环控制系统以及实际加工中工件所受的力的研究，获得了稳定的去除函数，并对非球面光学元件进行了实际加工，取得了理想效果，突破了国外的技术封锁，形成了具有自主知识产权的核心技术，为国防建设和科技发展提供技术支持。 　　三、本文研究涉及的主要理论 　　CCOS 技术是对采用数控技术对非球面表面成型和加工的一类技术的总称，它的核心思想是由 S 以内，并应用于多块大口径非球面反射镜的加工[14,30]。 　　随着磁流变液的研制和理论研究的不断深入，其应用领域的不断拓宽。二十世纪九十年代前苏联传热传质研究所的 agorheologicalFinishing)技术，在 1993 年 CR302 磁流变仪和粘度计检测了所配制磁流变液的分散特性、流变特性和零磁场粘度，结果显示磁流变抛光液具有很好的抗沉降稳定性和流变特性。 　　2. 分析了几种结构形式磁流变抛光设备的优缺点，采用倒置式磁流变抛光设备，并据抛光轮的尺寸和流量需求，设计了磁流变抛光的喷头和回收机构储液罐，利用蠕动泵构建了磁流变循环控制系统。根据哈根-伯肃叶理论，通过检测系统的压强变化间接实现对液体粘度的控制，并对成分进行实时补给，利用冷却循环系统对温度进行控制。研究了温度和粘度变化对抛光过程中流量、去除函数和粗糙度的影响。最后，利用所研制的抛光液和循环控制研究了抛光过程中去除函数的稳定性。 　　3. 选择了工程常用的两种材料 BK7 玻璃和 RB-SiC 陶瓷材料，利用 KISTLER力传感器，测量了不同压入深度下抛光两种材料时工件所受到的正压力和剪切力，分析了压入深度对去除函数面积、材料去除效率以及对有效摩擦系数的影响。同时，通过改变抛光液中铁粉的含量、铁粉的粒径、抛光粉的含量，分别测量抛光 BK7 玻璃和 RB-SiC 陶瓷时工件所受到的正压力和剪切力，并分析其对去除函数面积、材料去除效率、以及摩擦系数的影响，讨论了抛光 BK7 玻璃和 RB-SiC之间工艺参数选择的不同。最后，分析了正压力和压强以及剪切力和剪切应力与材料去除效率的关系。 　　4. 利用自主研制的磁流变抛光液和抛光设备，研究了应用磁流变抛光RB-SiC 的材料去除机理，并分析了抛光后表面粗糙度。利用磁流变抛光技术对一块非球面 RB-SiC 反射镜进行了实际加工，加工后表面满足了改性前的面形精度和表面粗糙度的要求。研制了适用于硅改性层抛光的磁流变抛光液，分析了磁流变抛光液中抛光粉含量的变化对去除函数的影响，利用两种抛光液对硅改性后的 RB-SiC 进行了抛光，取得了理想的效果。 　　5. 总结了本文主要研究内容和创新性工作，展望了有待于进一步完善和深入研究的工作。 　　(二)本文研究框架 　　本文研究框架可简单表示为： 　　五、写作提纲 　　摘要 5-7 　　Abstract 7-9 　　目录 10-14 　　第1章 绪论 14-32 　　1.1 课题研究背景及意义 14 　　1.2 常用非球面加工技术简介 14-20 　　1.2.1 计算机控制表面成形技术(CCOS) 15-16 　　1.2.2 应力盘抛光技术 16-17 　　1.2.3 气囊抛光技术 17-18 　　1.2.4 离子束抛光技术 18-19 　　1.2.5 磁流变抛光技术 19-20 　　1.3 磁流变