第六章 氮化物陶瓷.pptVIP

三、AlN陶瓷的烧结及性能 四、 AlN陶瓷的用途 电子元器件、大规模集成电路 高温构件热交换材料 熔融金属用坩埚材料等 第四节 氮化硼 一、晶体结构与性能 1. 六方晶系、立方晶系（高温高压） 2. 良好的润滑性和导热性（白石墨） 3. 密度小、熔点高，热膨胀系数小等 * 材料科学与工程学院 第六章 氮化物陶瓷 氮化物陶瓷种类及性质 第一节 氮化硅陶瓷 Si3N4的晶体结构 α -Si3N4 （针状） 1400 ~ 1600℃ β- Si3N4 （颗粒状） 特点： 1） β- Si3N4 [SiN4 ]四面体共角顶，六个[SiN4 ]四面体 组成六方环 2） α -Si3N4 [SiN4 ]四面体共角顶，有应变，自由能高 3）重建式转变 2. Si3N4粉末的合成 硅粉直接氮化法(α + β) 1）氮化机理 2）杂质的影响 A 控制Fe （FeSi） B 控制O2 及 H2O Si + 1/2O2 → SiO↑, Si + O2 → SiO2 Si + H2O → SiO↑ + H2, Si + 2H2O → SiO2 + 2H2 C. H2 的影响 SiO2 + H2 → SiO↑ + H2O 3）其他因素的影响 硅粉粒度: 氮化最高温度:（1200~1300℃、 1450℃） 料层厚度: 两次氮化等: SiO2还原氮化法 (α) 1) 反应过程 SiO2 + C → SiO(g) + CO SiO2 + CO(g) → SiO(g) + CO2 C + CO2 → 2CO 3SiO + 2N2 + C → Si3N4 + 3CO 2) 影响因素 N2流速的影响 SiO分压的影响 氮化温度 氮分压的影响 硅亚胺分解法 气相合成法 (CVD) SiCl4 + NH3 = Si3N4 + NH4Cl SiH4 + NH3 = Si3N4 + H2 3. Si3N4制品的制备 反应烧结Si3N4 控制因素 1) 硅粉 200目、纯度高 2) 素坯成型 3) 预氮化 1050℃ 1hr → 强度 4) 素坯加工 5) 二次氮化烧成 温度： 气氛：H2/N2 = 2 : 95 最佳时间： 热压烧结Si3N4 1) 外加剂在热压Si3N4中的作用 Si3N4 + SiO2 + 金属氧化物 +（杂质）→ Si3N4 + 液相 A MgO Mg2SiO4、MgSiO3 B、Y2O3 Y10Si7O23N4 Y4Si2O7N2 黄长石：Y2O3·Si3N4 C、CeO2及其它稀土氧化 物（Er, Dy, Sc等）D、含Al2O3的复合氧化物 Sialon, MgO-Al2O3, Y2O3-Al2O3 4. Si3N4 陶瓷的性质和用途 性 质 (1) 强度高 (2) 高抗热震性 α = 2.5 ~ 3.2×10-6/℃ , λ = 15 ~ 30W/mK (3) 化学稳定性 (4) 耐磨性好 Hv 1500kgf/mm2, HRA 85, ~ 90 (5) 电绝缘性好 RR.T 1014Ω·cm, 1100℃: 2.7 ×106Ω·cm ε: 7.2 tgδ: 0.002 (6) 比强度大 Si3N4的主要用途 （1）高温工程部件 （2）耐火材料 （3）夹具、绝缘材料 （4）耐磨、耐蚀材料 （5）其他 第二节 赛隆 (Sialon)陶瓷 一、Sialon 的由来、种类、特性 由来及定义 种类 (Si,Al)(O,N)4, Si6-zAlzOzN8-z z = 0 ~ 4.2, (Si,M)(O,N)4 β’- Sialon （六方晶系） 3、性 质 二、 Sialon 的制备 1. 配方设计 Sialon是一种宽范围的固溶体，调整固溶体组分比例,可 以获得优异性能。 Mg-Si-Al-O-N系统