8PVD磁控溅射镀膜生产工艺流程.pptVIP

PVD磁控溅射镀膜（装饰镀）生产工艺流程 抽空 抽空: 根据薄膜的要求,真空度的高低对膜层质量起着至关重要的作用。针对我厂所生产的货件,成膜前的真空度要求达到5.0×10-3Pa(抽空时长约30~60分钟). 抽空加热 抽空加热: 在达到一定真空度的情况下(比如: 2.0×10-2Pa)开启加热,并开转架. 目的: 对货件及真空室内进行烘烤处理,可减少或消除其表面所吸附的气体,从而可提高膜层的质量和性能,但必须注意: 在真空度达到所要求的范围时,才可开启加热,这样可避免货件表面被氧化. 加热开启的同时必须开启转架。 洗靶 洗靶(也称点靶): 在真空度达到一定范围的情况下(本公司生产的货件要求范围在7.0×10-3~5.0×10-3Pa)才可开靶,对靶面进行清洁处理.(本公司部分机器由于没有小车挡板,需要单独进行洗靶). 目的: 清除靶材吸附的气体及清洁靶表面的镀层. 离子清洗 离子清洗: 工件在预热处理后,表面仍会有一定的脏污存在,或许也有轻微的氧化层,离子清洗是去除脏污和表面氧化层较有效的方法之一.给真空室充入较高压强的Ar气,同时工件加上负偏压后引起辉光放电,被离化的Ar离子在电场的作用下,高能量的轰击工件,而达到把工件表面的脏污溅射出去,起到清洁和活化货件表面的目的. 成膜 成膜: 当工作气体氩气的压强达到一定时,开靶,并充入适量的反应气体进行溅射,最终得到所要求的薄膜.