射频磁控溅射制备ZnO光波导薄膜.pdfVIP

第25卷 第 1期 山东 建 筑 大 学 学 报 Vo1．25 No．1 2010年 2月 JOURNAL OF SHANDONG JIANZHU UNIVERSITY Feb． 2010 文章编号：1673—7644(2010)01—0010—04 射频磁控溅射制备 ZnO光波导薄膜 李爽，王凤翔，付刚，季艳菊，赵俊卿 (山东建筑大学 理学院，山东 济南 250101) 摘要：采用射频磁控溅射技术在石英玻璃上制备出了具有高度C轴择优取向的ZnO薄膜。利用 x射线衍射 (XRD)、背散射分析(RBS)、棱镜耦合等技术对其结构、光波导性质进行研究，结果表明减小溅射压强有利于提 高薄膜的结晶质量，增强薄膜的C轴择优取向。溅射压强越小，薄膜越厚，薄膜的有效折射率越接近晶体材料 的折射率。 关键词：ZnO薄膜 ；射频磁控溅射；光波导；X射线衍射 中图分类号：0484．4 文献标识码 ：A ZnO opticalwaveguidefilmspreparedbyrfmagnetronsputtering LIShuang，WANG Feng—xiang，FU Gang，eta1． (SchoolofScience，ShandongJianzhuUniversity，Jinan250101，China) Abstract：ZnO thin filmswith astrongc—axisorientation aresuccessfully deposited on quartzglass substratesatroomtemperaturebyradiorfequency(rf)magnetronsputteringtechnology．X-raydif- rfaction，Rutherfordbackscattering，andprism couplingmethodwereusedtoinvestigatethestructure andopticalpropertiesofZnOthinfilms．Theresultsshowedthatlowersputteringpressureispropitious toincreasingthecrystallinity．and enhancingthec—axisorientation ofthefilms．Asthe sputtering pressuredecreasing，thethickeroffilmswereincreased，theclosereffectiverefractiveindicesofZnO filmstocrystalrefractiveindices． Keywords：ZnO thinfilms；rfmagnetronsputtering；opticalwaveguide；X—raydiffraction 禁带半导体领域又一研究热点。此外，ZnO薄膜制 0 引言 备工艺比较简单，有助于降低光电器件的制作成本 。 最近 ，制备高质量的外延性 ZnO薄膜 已经取得 了显 ZnO是一种宽禁带直接带隙半导体材料，由于 著的进步 。 在室温下具有较高的激子束缚能(60meV)¨J，因此 能够用于制备 ZnO薄膜的技术很多，常见的有 具有良好的光电性 能。近年来随着ZnO光泵浦紫 磁控溅射法 mJ、化学气相沉积 ¨、溶胶一凝胶 外激光的获得和掺杂的实现，ZnO薄膜作为一种新 法 ]、脉冲激光沉积 ”]、分子束外延法[14