Pd/γ-Al2O3对超薄金属钯复合膜表面缺陷修复的研究.pdfVIP

Pd/γ-Al2O3对超薄金属钯复合膜表面缺陷修复的研究.pdf

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Pd/γ-Al2O3对超薄金属钯复合膜表面缺陷修复的研究

学兔兔 第2期 唐春华等:Pd/y—Al’o,对超薄金属钯复合膜表面缺陷修复的研究 蠢 赢 ≮ _ : :m {§ : Pd/y—AI203对超薄金属钯复合膜表面缺陷修复的研究 唐春华,邵 炜,徐恒泳 (中国科学院大连化学物理研究所,辽宁大连 l1 60 23) 摘要i通过对化学镀制备的超薄金属钯复合膜的表面缺陷填充Pd一.Al’0 粒子并提供钯核,进而通过化学镀制备了致密 超薄金属钯复合膜。结果表明,首次化学镀制备的金属钯膜的厚度约为 1.22txm,而以Pd一一 :0,粒子对其缺陷进行填充并进一 步化学镀制备的钯膜厚度仅增大到1.32/~m,说明第二次化学镀金属钯主要沉积在经 Pd 一A120,粒子填充的缺陷位上。在 400~C,100kPa压力下,氢气渗透速率为0.8378mol·m。 ,为初镀钯膜的81%,而H.4N 理想分离因子从初镀膜的370增大到 13700。可见,该方法实现了超薄金属钯复合膜缺陷的局部修复,在基本不增加膜厚的前提下,有效地消除了钯复合膜的表面针 孔。 关键词:钯;化学镀;复合膜;表面缺陷;修复;氢气分离 中图分类号:0 643 文献标识码:A 文章编号:1001-9219(2009)一02—01—06 金属钯膜由于具有高的氢气渗透性能、良好的 6 m、氢渗透速率为2.7x10 tool·in s-1.Pa 的钯 机械和热稳定性,因此在氢分离与纯化以及膜反应 膜,其HJN2分离系数为300-450。Tong等 7]通过 器应用方面倍受关注[1-6]。与纯钯管相比,通过将钯 比较氧化锆、氢氧化铈、氢氧化铝溶胶、钯改性氢氧 或钯合金膜附着在多孔载体上得到的复合膜,不仅 化铝溶胶等作为中间层,修饰大孑L不锈钢载体,发 可大幅度减小膜厚度和降低成本,而且具有高的氢 现使用钯改性氢氧化铝溶胶修饰不锈钢载体制备 气渗透性和良好的机械、热稳定性。所用多孔载体 出的钯膜性能最好,在773K和 100kPa条件下,氢 可以是多孔陶瓷、多孔玻璃、多孑L不锈钢等。尽管钯 的渗透速率约为0.30mol·In。 ,且高温条件下膜的 基复合膜的研究取得了较大进展 ,但由于多孔载 性能稳定。 体表面的非均匀性,特别是存在直径和深度高达几 (2)通过修饰钯膜缺陷达到减少针孔的目的。li 十微米的缺陷,使得在化学镀过程中很容易出现针 采用NaCl反渗透和化学镀相结合的方法修补 孔和裂缝罔,实验证明越薄的钯膜越容易产生针孑L c91。 钯膜缺陷,在化学镀过程中由于反渗透压的存在, 文献报道了减少针孔的方法,总的可分为两大类: 使得镀液中的水经由缺陷处从镀液流向NaC1溶 (1)通过修饰载体,降低表面粗糙度和孔尺寸 液,这不但增加了缺陷附近的Pd(NH3)] 离子浓度, 来减少缺陷。Xiong/ 等应用溶胶.凝胶技术活化多 而且有利于液相的Pd(NH3)/ 离子向缺陷处迁移,从 孑L底膜,将被钯改性后的勃姆石溶胶直接涂敷在底 而提高缺陷处的钯沉积速率,达到修补缺陷的目 膜表面,达到了修饰表面和种钯核的目的,通过化 的。经过两次修补后,膜的厚度从7.61Am增加到 学镀制备的钯膜的HjN 分离系数为20~130,氢渗 10.31Am,HJN2分离因子由原来的1O-3跃升到970。 透速率为0.02 tool·in。·s~~1.07 mol·ITI。·S~。Su等『】 Tong等【】91采用六氟乙酰丙酮合钯 (Pd(F6acac)2)前 首先采用二氧化硅修饰多孑L不锈钢载体,再用化学 驱体进行化学气相沉积 (CVD)与化学镀相结合的

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