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蓝宝石抛光技术的研究进展.pdf
维普资讯
机 电园地
蓝宝石抛光技术的研 究进展
郭晓艳 ,魏 昕,谢 昕
(广东工业太学, 广东广 510090)
1前言
蓝宝石具有硬度高、熔点高、透光性好 、热传导性和
电绝缘 优 良、化学性能稳定等特点 .敬它的成用和
商 化娃示着诱人的前景 .故广泛周柞榷密投器仪表 、航
天 rl作红外疆光材料 、激光器的窗 和厦射镜,半导体
硅舶外延基片、半导体GaN的外延村底材料 绝缘村底
的集成芯片等 ill 在上述应用 中.蓝宝石霉件必须肯很
高的表面质量。所以,蓝宝石 的精密和超精密加工已成为 1 墟宝石机槭抛光表而檄艇樱型
制造技术领域 中的关键 问题 本文在综合归纳 目前常用的
几种蓝宝石抛光方法的赫础 .介绍近几年出现的 一种新 及扩舣层等组成 蓝宝石抛光表晰的损伤层睬度与膳料的
型的抛兜技术——澈光抛光技术,并与传统的抛光方法进 粒径成正比关系
行 比较 . t2)化学扭堑光
2抛光方法及其影响因素 化学抛光主要采用对工忭材料具有腐蚀作用的抛光液
日前应用于蓝宝石 的抛光技术有多种 .按照其工作原 对工件进行化学腐蚀去除材料 化学腐蚀的 目的足除去机
理和 式,主要可分为:机械抛光、化学抛光、化学机械 械抛光过程中在表面 E产生的机械损伤层,井清除各种沾
抛 光,激光抛光等 四犬类 污,从 Ilfi得到半整光亮 晶格完整的清浦表研 有文献 ,『
(I)机械抛光 研究报道 丁蓝宝 衬底 的化 学抛 光,结果表明:先将 蓝宝
机械抛光是篮宝石传统的抛光方法 、它采用人造金刚 石衬雇在 15Q(I~1550C的空气 中蕊热4小时后 ,糌柱 高堆
石微粉研磨膏进行抛光 于盘刚石硬度 (奘氏 1O级) 下用 H,P 怍抛光敞,温度360,4,00C,抛光 10分钟为抛
比蓝誊石 (莫氏9缎)高,且现有微粉分选工艺较落后使 光丧面质量最好 的条件。王晓辉等从腐蚀液组分的稳定
得激粉颗粒尺寸分布范围广,因而不可避免在蓝宝石单品 性、腐蚀速谴 的台理性 表面形貌J}句变化及损伤层 的去脒
抛光表面产生划癯。现在高椅手表越来越多地采用蓝常石 情况等多方面因索综合考虑蓝宝百衬底的化学抛光,认为
. ,
表蒙.其加 E方法是用金刚石儆粉在双暖研磨机上拙光, H. SO~:H_ PO4=3:I,温度 225。C.时间 】5分钟为 (0001)晶
最终的平面度可控制在±3¨肌 内 I张纯亮等人栗用锝抛 面蓝宝石村 I匠腐 鼬 的较好条件 i。j{{此条件 处理 的
光盘和南承 、盘剐石致少蛩辅料组成抛光液抛光蓝 石 (0001)品面蓝宦年衬底 已成功地用 于GaN 的金 有机物
后,将蓝盆百机械抛光表面分为三个阶段 :徽破碎层去除 气相外延哇长巾 ..化学抛光产生的破坏层深度教浅 ,但
阶段 过渡阶段和抛光表面形成阶段 图 】为机械抛光 抛光时需要的温度较高,容易导致抛光雾斑。一般化学脚
蓝蛊fi表丽散观榄型,蓝宝石表面是山微小埘痕、微裂纹 拽用1:生长前衬底的弛光
r东省科技}|蜊项 目 (项 目编号:2004BI(Y2010I8)和广州前科拄计划项 日 (项 目编号:2005JI--C0081j
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