以脉冲化学气相沉积类钻碳薄膜之特性研究-龙华科技大学.PDF

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以脉冲化学气相沉积类钻碳薄膜之特性研究-龙华科技大学

以脈衝化學氣相沉積類鑽碳薄膜之特性研究 以脈衝化學氣相沉積類鑽碳薄膜之特性研究 宋大崙 劉沖明 辛承諺 劉哲瑋 杜言濬 江文境 龍華科技大學工程技術研究所 摘要 類鑽碳薄膜(Diamond-like carbon) 薄膜是由 sp2 3 與 sp 鍵結組成的非晶質碳膜,類鑽 碳薄膜因為擁有優越的性能如高透光、高導熱、耐摩擦與低摩耗、耐化學腐蝕,而這些 特性可應用在工業與生醫材料領域上,因此類鑽碳薄膜被認為是具有潛力的材料。 本實驗使用脈衝化學氣相沉積系統,使用矽晶片與壓克力基材,在室溫下 CH氣體流 4 量 2 、5 、10sccm改變脈衝寬度: 10μs和脈衝週期: 110μs 、160μs 、210μs 與脈衝電壓 0.5kV 、 1.0kV 、1.5kV 、2.0kV 、2.5kV 、3.0kV及鍍膜時間 1 小時與3 小時條件下,探討不同壓力、 脈衝週期、脈衝電壓及鍍膜時間對於類鑽碳薄膜微結構 與機械特性特性之影響。 關鍵詞: 類鑽碳薄膜,脈衝電漿化學氣相沉積。 1.前言 deposition,Pulsed-PECVD,Pulsed-CVD)在 類鑽碳薄膜之研究至今已四十多年,目 以往研究中顯示,能降低成膜溫度及離子 前已有許多類鑽碳相關研究,類鑽碳薄膜 轟擊 [8] 以及有較高的沉積速率使生產更 2 3 具效率[9] 。 係由 sp 與 sp 鍵結所構成之非晶質碳膜, 因它表現出良好的化學特性和物理性質, 2.研究動機與目的 如高硬度 [1] 、耐摩擦[2]及抗腐蝕 [3] ,此 外,國內外文獻指出,類鑽碳薄膜的確具 壓克力的成型容易,因此可以製作許多 有生物相容性 [4] ,可應用在各種的工業領 產品,如各式產品面板、隱形眼鏡、生醫 材料、假牙…等,如果能在壓克力上沉積 域與生物醫學上。如防護塗層 [5] 、及人工 高硬度的類鑽碳薄膜,則可以提高產品的 關節 [6]及手術刀 [7]等方面上的應用。 應用範圍與其附加價值。矽晶片上沉積類 類鑽碳薄膜製作方法有許多種,例如電 鑽碳薄膜,在理論上較為容易,因此在本 漿輔助化學氣相沉積 (Plasma-enhanced 研究中,使用 N-type矽晶片 (Si)與壓克力 CVD ,PECVD) 、磁控濺鍍(Magnetron (Poly methyl methacrylate ,PMMA)上沉積 sputtering) 、離子束輔助沉積(Ion beam 類鑽碳薄膜,改變脈衝週期、脈衝電壓、 assisted deposition ,Ion-plating) 、脈衝式真 鍍膜時間與甲烷(Methane ,CH4)流量改變 壓力,觀察其改變對類鑽碳薄膜之影響, 空 陰 極 電 弧 (Pulsed vacuum arc 以及探討其類鑽碳薄膜之特性。 discharge) 、 感

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