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有机介质层铟锌氧化物薄膜晶体管
第 卷 第 期 液 晶 与 显 示 ,
25 4 Vol.25No.4
年 月 ,
2010 8 ChineseJournalofLiuidCrstalsandDislas Au.2010
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文章编号: ( )
10072780201004055803
有机介质层铟锌氧化物薄膜晶体管
李桂锋,冯佳涵,周 俊,张 群
(复旦大学 材料科学系,上海 200433)
摘 要:利用直流磁控溅射方法在玻璃基板上室温制备非晶铟锌氧化物半导体薄膜,薄膜表面平整。采用旋
涂法室温制备聚四乙烯苯酚有机介质层。以铟锌氧化物薄膜作为沟道层、聚四乙烯苯酚作为介质层,成功制
备了顶栅结构的薄膜晶体管。测试结果表明,所制备的薄膜晶体管具有饱和特性且为耗尽工作模式,薄膜晶
2 -1 -1 6
体管的阈值电压为 ,迁移率为 · · ,开关比为 。
3.8V 25.4cm V s 10
关 键 词:薄膜晶体管;PVP有机介质层;铟锌氧化物
中图分类号: + 文献标识码:
TN321.5 A
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