工业用水中硅化合物的去除方法Microsoft Word 文档..doc

工业用水中硅化合物的去除方法 作者：佚名 发布日期：2007-12-18 23:48:40 (阅197次) 摘　要：　根据工业用水对于水质中硅含量的要求，介绍了混凝、反渗透、超滤、微泡浮选、电凝聚、离子交换脱硅和阻垢剂抑制硅垢等方法的应用效果和各种技术的新进展。 要害词：　工业用水；　硅化合物；　脱除 中图分类号：　X703　　文献标识码：　B　　文章编号：　1000-4602(2000)04-0026-03 　　工业用水中的硅化合物会对生产过程产生不同程度的危害。工业锅炉补给水、地热水和冷却水的硅化合物易于形成硅垢，且形成的硅垢致密坚硬，难于用普通的方法清洗，严重影响设备的传热效率以及安全运行；电子工业用水中，二氧化硅会对在单晶硅表面生产半导体造成极大危害，降低电子管及固体电路的质量［1］；在造纸工业用水中，二氧化硅含量过高，将使纸质变脆；在人造丝工业用水中，硅酸含量过高将影响纤维强度和粘胶的粘度；在湿法冶金用水中，硅酸含量超过一定范围将出现乳化而影响生产。为此在不同的给水处理系统中，均需充分考虑硅的脱除。 1　混凝脱硅 　　混凝脱硅是利用某些金属的氧化物或氢氧化物对硅的吸附或凝聚来达到脱硅目的的一种物理化学方法。这是一种非深度脱硅方法，一般的混凝 过滤可去除60的胶体硅，混凝 澄清过滤可去除90的胶体硅［2］。 1.1　镁剂脱硅 　　在实际的水处理过程中，常将镁剂和石灰一起使用以保证脱硅效果。 　　镁剂脱硅的效果决定于［3］： 　　①　pH值：镁剂脱硅的最佳pH值为10.1～10.3。为保证pH值，有必要在处理系统中加入石灰。石灰不仅有调节pH的功能，而且还可以除去部分二氧化硅、暂时硬度和二氧化碳等。 　　②　混凝剂的用量：采用镁剂脱硅时，通常都加混凝剂。适当的混凝剂可以改善氧化镁沉渣的性质，提高除硅效果。一般所用的混凝剂为铁盐，其添加量为0.2～0.35mmol/L。 　　③　水温：提高水温可以加速除硅过程，并使除硅效果提高。40℃时出水中残留硅可达1mg/L以下。 　　④　水在澄清器中的停留时间：水温为30℃时，实际停留时间应＞1h，40℃时约为1h，120℃时为20～30min。 　　⑤　原水水质：原水的硬度大时对镁剂脱硅的效果有利。原水中硅化合物含量对镁剂比耗(mgMgO/mgSiO2-3)有影响。镁剂比耗随原水硅化合物含量的增加而减少，随水中胶体硅所占比例的增加而增加，一般在5～20范围内。 1.2　铝盐脱硅 　　决定铝盐脱除溶解硅效果的主要条件有［4］： 　　①　温度：铝盐除硅的最适宜温度为20℃。 　　②　接触时间：在铝盐与含硅水接触30min后，大多数的硅可被吸附脱除。 　　③　pH值：最适宜的pH值范围为8～9。 　　④　铝盐的结晶状态和物理性质：铝盐沉淀物假如在溶液之外生成，尤其是经过干燥后，其脱硅效果将大为减弱，而铝盐的结晶状态对二氧化硅脱除效果的影响为：AlO(OH)＞Al2O3.3H2O＞Al(OH)3。 　　铝盐脱除胶体硅的最佳pH范围为4.1～4.7，大约40mol胶体硅仅需1mol铝盐即可。 1.3　铁盐脱硅 　　氢氧化铁能够吸附溶解硅，一般认为其最有效的pH值为9，且无定形氢氧化铁比其晶形的吸附效果更佳。去除1mg二氧化硅需要硫酸铁10～20mg。在常温时，以铁盐作絮凝剂对含硅水进行处理后，可使水中残余溶解硅含量降至3～5mg/L。据报道，在水中加入适量的三氯化铁、铝酸钠和氧化钙处理含硅20mg/L的水，硅的去除率也可达70～80。 1.4　石灰脱硅 　　采用熟石灰处理原水，于40℃下在除去暂时硬度和二氧化碳的同时，还可以除去部分二氧化硅，水中残留硅含量可降到30～35。 　　张桂枝［5］在110～115℃的温度下采用消石灰对福建炼油厂锅炉给水进行了除硅预处理，认为由于生成CaSiO3沉淀的缘故，硅去除率可达80。 　　近年来，水的混凝处理技术在两个方面有了较大进展。一方面是注重混凝剂的复配使用，通过药剂的协同效应以求得最佳的混凝沉淀效果。另一方面是一些无机高分子混凝剂，如聚铁、聚铝三号等开发成功并已投入工业应用。这些无机高分子混凝剂具有适用范围广和价格低的特点，与传统的铝盐和铁盐相比，它们免除了水解和聚合反应，不仅可以加快混凝过程，而且还减轻了许多影响混凝效果因素的干扰，脱除硅的效果比较稳定。 2　反渗透脱硅 　　反渗透是自然现象渗透的逆过程。Buecker认为［6］反渗透可以脱除胶体硅和溶解硅，适于净化锅炉补给水，回收部分冷却塔排污水，以及制取超纯水。另据资料［7］，反渗透法的总除盐效率可达93，SiO2可脱除80。日本专利报道，对硅含量为5～20mg/L的混合水，以渗透膜处理后，其出水硅含量可降至1mg/L以下。 　　80年代以来，反渗透已成为锅炉补给水的一种重要处理方法，