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N_2O为氧源金属有机化学气相沉积生长ZnO薄膜的光学性能研究_苏宏波
26 7 Vol.26, No.7
2006 7 ACTA OPTICA SINICA July, 2006
:0253-2239(2006)07-1112-3
N O为氧源金属有机化学气相沉积生长ZnO薄膜的
2
光学性能研究*
**
苏宏波 戴江南 王 立 蒲 勇 方文卿 江风益
(, 330047)
: (AP-MOCVD)、, H O N O , DEZn
2 2
Zn , N , -c Al O ZnO 。 X (DCXRD)
2 2 3
ZnO。 , ZnO (10 - 12)ω
350″, ZnO ; 10 K , N O ZnO H O
2 2
ZnO , 3. 331 eV
(T ES)。 , N O ZnO。
2
: ;;;;ZnO;N O
2
+
:TN304.2 2 :A
Optical Properties of ZnO Thin Film Grown by Atmospheric
Pressure-Metal Organic Chemical Vapor eposition Using
N O as Oxygen Precursor
2
Su Hongbo Dai Jiangnan Wang Li Pu Yong Fang Wenqing Jiang Fengyi
(Education M inistry Engineering R esearch Cen ter f or Lumin escen ce M at erials an d Devices,
Nanchang University, N an chang 330047)
Abstract: Hig-h quality ZnO films were grown on c-Al O substrate by atmospheri pressur-e metal organi hemi al
2 3
vapor deposition te hnique, using a method of three-step growth. DEZn and H O were used as the Zn and O
2
pre ursors in both the low and high temperature N b
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