248nm深紫外光刻胶-影像科学与光化学.PDF

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2017-05-28 发布于天津
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248nm深紫外光刻胶-影像科学与光化学

2 1 5 Vol. 2 1 No. 5 2003 9 PHOT OGRAPHIC SCIENCE AND PHOT OCHEMIST RY S pt. , 2003 综述 248 nm 郑金红, 黄志齐, 侯宏森 ( , 100022) : 本文从化学增幅技术的产生, 深紫外248 nm 胶主体树脂及PAG 发展历程溶解抑制剂存的工艺问题及解决途径多个方面综述了深紫外248 nm 胶的发展与进步. : 化学增幅; KrF 激光; 深紫外光刻; 248 nm 光刻胶; 主体树脂; 酸催化; 光致产酸剂 : 1000-3231( 2003) 05-0346- 11 : O64 : A 1 , . : 2 ) 3 4 . , . , , . 1 Major photor sists for IC manufacturing - 1. - 2. G St pp r 436 nm 3. I St pp r 365 nm 248 nm KrF Excim r Las r 248 nm 193 nm ArF Excim r Las r 193 nm 1 , , , g-lin , 193 nm, . KrF : 2003-05- 15; : 2003-06-03 : ( 1967- ) , , , , , . 346 5 : 248 nm 347 , 248 nm , 248 nm , 248 nm . 248 nm : ( 1) 248 nm ; ( 2) ; ( 3) ; ( 4) . Ñ248 nm ( OD 1/ Lm) [ 1] , 248 nm , , . 248 nm , . , 248 nm , 248 nm , , , , , . , . 2 [2] 1980 IBM ( PAG) 3 : ( 1) ; ( 2) ; ( 3) ( tBOC) . PAG , , . PAG , . O )