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碳离子注入前后硅片的微动磨损行为研究
200 8年 4 月 润滑与密封 Ap r12008
第 33 卷 第 4 期 LUBR ICA TION EN GIN EER IN G V ol133 No 14
碳离子注入前后硅片的微动磨损行为研究 3
1 2 1 2
吴虎城 张德坤 李 伟 陈立奇
( 1. 中国矿业大学机电工程学院 江苏徐州 2 21 116 ; 2. 中国矿业大学材料科 学与工程学院 江苏徐州 2 21 116)
摘要 : 利用离子注入技术对单晶硅片表面进行碳离子注入 用原位纳米力学测试系统对碳离子注入前后硅片的纳米
硬度和弹性模量进行测定 在 UM T2II型微摩擦试验机上对其开展微动磨损试 验 利用 S23000N 型扫描 电镜观察其磨损
后的磨痕表面形貌 。结果表明 碳离子注入后硅片的纳米硬度增加 弹性模量降低 减摩效果和抗磨性能得到了提高 ;
注入前后硅片的微动磨损机制相似 主要磨损形式为磨粒磨损 。
关键词 : 单晶硅 ; 离子注入 ; 微动磨损 ; 摩擦 因数
中图分类号 : TH 11711 文献标识码 : A 文章编号 : 02 54 - 015 0 ( 2008) 4 - 03 0 - 3
Re sea r ch on the F r ett in g W ear of S ilicon W a fer s befor e an d
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W u Hu ch e n g Zh a n g D e kun L i W e i Ch e n L iq i
( 1. Co llege of Mech an ical an d E lectrica l En gineerin g Chin a U nive rsity of M in ing and Techno logy Xu zhou J ian gsu 221 116 Ch ina;
2. Co llege of M ateria ls Sc ien ce and Eng in eering Ch ina U n iversity o fM in ing an d Techno lo gy X uzhou J iang su 2 211 16 Ch ina)
A b str ac t: The single crystal silicon wafer wa s imp lanted by carbon ion. The change s of hardne ss and ela stic m odulus of
silicon wafers before and a fter imp lan tation by carbon ion were studied on the in 2situ nano 2m echanical te sting system. The
fretting wear te sts on silicon wa fer and the carbon ion
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