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低温加氢裂解脱除高硅ZSM-5分子筛内TPAOH模板剂

物理化学学报 (WuliHuaxueXuebao1 April ActaPhys.一Chim.Sin.2015,31(4),793-799 793 [Article] doi:10.3866/PKU.WHXB201503021 www.whxb.pku.edu.cn 低温加氢裂解脱除高硅ZSM.5分子筛内TPAOH模板剂 赵淑蘅 郎 林’ 阴秀丽 杨文 申’ 吴创之’ (中国科学院广州能源研究所,中国科学院可再生能源重点实验室,广州i510640;。中国科学院大学,北京100049) 摘要: 分子筛膜的合成和应用是近年来的研究热点,特别是具有独特孔道结构的MFI型分子筛膜.但由于膜 内有机模板剂在高温脱除时会导致膜产生缺陷,进而影响分子筛膜的应用.所以分子筛膜及分子筛晶体中有机 模板剂的低温脱除工艺一直是研究者们致力解决的问题之一.本文系统考察了高硅ZSM一5分子筛晶体内有机 模板剂(四丙基氢氧化铵,TPAOH)在H,N气氛下的低温裂解脱除规律,采用低温加氢裂解工艺,在 350。C以 下可有效脱除分子筛晶体孔道内的有机模板剂.通过对裂解后分子筛晶体的比表面积 (BET)、热失重(TG)、傅里 叶变换E~I-(FTIR)光谱和拉曼光谱表征证实,相比于空气和氮气气氛,含氢还原性气氛更有利于模板剂的低温 脱除,脱除率随温度的升高而增加:280。C时,加氢裂解后晶体的BET比表面积已达到252m ·g~,仍有少量 有机残余物:350。C时,加氢裂解后晶体的BET比表面积可达到399m ·g~,仅有微量无机碳残余物.此外,低 温加氢裂解后的分子筛表面相对洁净,且氨气程序升温脱附(NH。.TPD)结果表明低温加氢裂解后的ZSM.5分 子筛晶体具有相对较多的酸性位. 关键词: ZSM-5分子筛;脱除模板剂: 低温加氢裂解: 高硅铝比; 四丙基氢氧化铵 中图分类号:0643 TPAOHTemplateRemovalfrom High-SilicaZSM-5by Low-TemperatureHydrocracking ZHAO Shu-Hengl LANG Lin YINXiu—Li’。 YANGWen—Shen’ WUChuang—Zhi’ (CASKeyLaboratoryofRenewableEnergy,GuangzhouInstituteofEnergyConversion,ChineseAcademyofSciences, Guangzhou510640, R.China; UniversityofChineseAcademyofSciences,Beijing100049,PR.China) Abstract: Zeolitemembranes,especiallytheMFI.typezeolitemembranes.haveattractedsignificantaRention fordecadesbecauseoftheirspecialproperties.Whileorganictemplatessuchastetrapropylammonium hydroxide(TPAOH)havetypicallybeenusedforthesynthesisofZSM.5zeoliteandzeolitemembranes,the templatesremaintrapped intheas—synthesizedzeolite crystals.A commonmethodforremovingorganic templatesandgeneratingporousframeworksisac lcination;however,duringthisprocess.thechanneIstructure maybeaffe

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