超导移频磁铁X光光束线.PDFVIP

光束線技術研發 超導移頻磁鐵X光光束線 Superconducting Wavelength Shifter X BL01A BL01B BL01C BL01A X image BL01B 520 keV X BL01C633 keV X EXAFS X XRD 本 中 心 已 經 安 裝 特 殊 設 計 的 超 導 移 頻 磁 鐵 性能，首先量取陰極射線管電子槍的影像，結果顯示 【1】 ，以產 即使是封裝的電子槍，也可以清楚地分辨出鎢絲及其 （Superconducting Wavelength Shifter） 生高光子通量及高能量的X光光源。我們利用此光源 氧化物保護層。另外也測量果蠅頭部的影像，其內部 引出三座X光光束線 【2,3】 ，分別是BL01A、BL01B以 精細的結構清晰可見。相位對比X光顯像的技術利於 及BL01C，如圖一所示。其中BL01A目前為白光光束 觀察低原子序物質和生物樣品的內部結構，對於生命 線，進行X光顯像（image）的實驗。將來可安裝槽 科學的研究以及醫藥的研發十分重要。 切式（channel-cut）晶體以及高倍率的K-B聚焦鏡系統， BL01B使用超導移頻磁鐵光源水平方向中央部分 進行與微米光束（micro-beam）相關的實驗，例如 的3 mrad，光譜能量範圍為5∼20 keV。主要的光學 微斷層掃瞄（micro-tomography）等。BL01B光束線 元件包括一個圓環聚焦鏡（toroidal focusing mirror） 光譜的能量範圍為5∼20 keV，可作小角度散射以及 和一個非色散式雙晶分光儀（double crystal mono- X光顯微術等相關的實驗。BL01C光束線光譜的能量 chromator）。圓環鏡鏡面的鍍膜採用銠（Rhodium）， 範圍為6∼33 keV，可作X光吸收能譜與X光繞射方面 以3.2 mrad的掠角入射，如此鏡面反射率可達90%， 的實驗。這三座光束線已完成建造及性能測試，即將 光子強度的截止能量為21 keV。此聚焦鏡位於距離光 開放使用。本報告將敘述這三座光束線至目前為止性 源15.5 m處，聚焦於離光源30.2 m處，在此可放樣品 能的測試結果。 或偵測器，聚焦鏡的聚焦比例（物距／像距）約為1。 BL01A使用超導移頻磁鐵光源水平方向最靠外側 雙晶分光儀位於20.8 m處，晶體採用Ge（111）以獲 的1mrad，光束經過一個水冷卻的限光器及二個 得較高的光子輸出通量。目前此實驗站安裝小角度散 250 µm厚的鈹窗，到達位於離光源18.6 m處的實驗站， 射的系統，可研究高分子、生物溶液以及高溫合金的 目前進行相位對比（phase-contrast）X光顯像實驗。 結構分析。今（93年）九月此實驗站將安裝一套空間 此實驗系統的空間解析度為1µm ，光束線光子的強度 解析度設計值為60 nm的三維X光奈米顯微儀，進行 很大，700-microns視場（filed-of-view）的偵測攝影 性能測試。此顯微儀建造完成後將可作二維顯微術、 機於10 ms的時間即達飽和狀態。為了測試此系統的 相位對比顯微術以及三維電腦斷層等。 圖一 超導移頻磁鐵光束線BL01A, BL01B及BL01C光學元件配置圖。CM：圓柱準直鏡，DCM：雙晶分光儀，FM：圓環聚 焦鏡，Image：顯像術，EXAFS：X光吸收譜，XRD：X光繞射，SAXS：小角度散射，Microscopy ：顯微術。