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什么是薄膜
薄膜是指用特定的制备方法在基板表面上生长的一薄层固态物质
(判断)区分薄膜与厚膜,厚度不是关键(√)
薄膜的制备方法和分类
PVD:真空蒸发,溅射,离子镀;CVD: 常压、低压CVD,金属有机物CVD,等离子体CVD,光CVD,热丝CVD;液相法:电镀,离子镀,液相外延,喷雾水、热解,LB膜,自组装Sol-Gel,MOD,水热法;渗入法:化合法,扩散法,离子注入法
薄膜材料的分类及应用
光、电、热、机械、生物、磁、化学、声
真空,描述真空的独特单位,真空各种单位的换算Pa,托,atm,Bar
1帕=0.00001Bar=1/1.01325*10^-5atm=9.869*10^-6atm=7.501*10^-3Torr
真空是指低于一个大气压的气体状态。
A、粗真空:1*105~1*102Pa B、低真空:1*102~1*10-1Pa C、高真空:1*10-1~1*10-6Pa D、超高真空:1*10-6Pa
真空系统:真空室,真空泵,控制系统,真空计
平均自由程
每个分子在连续的两次碰撞之间移动的平均距离
碰撞几率
气体分子在移动X距离以后,彼此间发生碰撞的几率
(判)f与那么大成反比(×)
分子通量(入射频率)——克努森方程
单位时间单位面积的器壁上碰撞的气体分子数
反射几率——余弦散射律——散射的本质
扩散油泵的工作原理及优缺点
工作原理:加热扩散泵油,使其沿喷嘴向下喷射,由于速度快,在进气口形成压力差,使气体向下扩散,排出泵外。
优点(6):结构简单;无可移动的部件,工作无噪音;防微尘;密封性好;抽速与压力成线性关系
缺点(4):油蒸汽回流造成真空系统污染;加热冷却需要时间;要制冷剂;可能加热过度
机械泵、分子泵
分子泵是利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子,使之获得定向速度,从而被压缩、Cvd反应分类:热分解 化合 歧化
Cvd特点:成膜类型广泛;成膜速度快;成膜性能好;可控性好;辐照损伤小。(速性控辐广——苏醒空腹光)
要求温度高,基板自掺杂;有毒;局部沉积困难(温杂毒沉)
CVD低压特点,等离子体特点,金属有机物特点
低压:降低基片温升导致的薄膜晶格缺陷及自掺杂污染;
降低外延生长临界温度;
减少埋层图形的畸变
改善了膜的性质(电阻率、厚度),使其均匀
等离子体::(降低反应温度)
降低基片温升导致的薄膜晶格缺陷及自掺杂污染;
活化原子、离子团,降低反应温度;
成膜均匀;
成膜速率快;
成膜附着力大
金属有机物(气相外延)
温度低,膜纯、无晶格损伤
外延生长,可制极薄膜
适用范围广。
有毒、温度不能太低
LB膜
利用分子表面活性在水—气界面上凝结成膜,再逐次将该膜转移到固体基片上,形成单层或多层类晶薄膜的方法
优点:成膜有序定向排列;
成膜材料具有广泛性
LB膜由单分子组成
设备简单,操作容易 (序广单设——旭光单设)
缺点:成膜速率低;
具有有机膜缺点;
膜厚小,表征带来困难 (速有标)
sol-gel
将金属醇盐、其他盐类等溶于醇醚等有机溶剂中,均匀溶解,通过水解、缩聚成为溶胶,再进一步通过聚合形成凝胶,最后通过热分解排除水分和其他副产物,形成薄膜
特点:纯度高;
所需温度低;
计量控制准确;
可制多种薄膜; (纯温准多简——纯稳准多见)
工艺简单,推广性好……
原料贵;易收缩易开裂;残余气体多;有机溶剂有毒;工艺周期长 (缩气毒长——锁起赌场)
优缺点考虑:成膜速度 附着力 成膜纯度 设备 经济 操作 对基片的损伤 真空度 镀膜范围 杂质 可控性重复性 复杂表面沉积
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