铁电薄膜材料教案.pdfVIP

中国科技论文在线 铁电薄膜材料的制备工艺及应用研究 李甜，康爱国，邢玉凯，杨毅彪* （太原理工大学理学院，太原 030024） 摘要：近年来，随着薄膜制备工艺的不断突破以及微电子、光电子、微电子机械等对铁电材 料小型化、薄膜化、集成化的要求，铁电薄膜材料已引起研究者们的热点关注。文章综述了 铁电薄膜的制备工艺及其典型应用，并简要分析了铁电薄膜不同制备工艺的优缺点。 关键词：铁电薄膜；制备工艺；铁电存储器 中图分类号：O 484 Preparation Process and Application of Ferroelectric Thin Film Li Tian, Kang Aiguo, Xing Yukai, Yang Yibiao (College of Science, Taiyuan University of Technology,TaiYuan 030024) Abstract: Recently, with the fast developing of thin film technology, as well as the miniaturization and integration’requirements of micro-electronics, photoelectron and Micro-electronics machinery, Ferroelectric thin film materials has attracted the attention of researchers. This article not only describes the preparation process of ferroelectric thin films and its typical application, but also analyzes the advantages and disadvantages in different preparation process. Keywords:ferroelectric thin film;preparation process;Ferroelectric Memory 0 引言 铁电薄膜具有介电性、压电性、热释电性、铁电性、以及电光效应、声光效应、光折变 效和非线性光学效应等重要特性[1] ，人们可单独利用其中某一性质或综合利用多种特性研制 众多的铁电薄膜器件。随着薄膜制备技术的不断突破和飞速发展，铁电薄膜和铁电集成器件 具有很好的应用前景，是目前功能材料与器件的研究热点。 1 铁电薄膜的制备工艺 铁电薄膜的制备方法主要有溶胶-凝胶法、磁控溅射法、脉冲激光沉积法、金属有机化 学气相法、分子束外延法、金属有机物分解法、化学溶液沉积法等。 1.1 溅射法 20 世纪40 年代溅射技术作为一种镀膜方法开始得到应用和发展，60 年代以后随着半导 体工业的迅速崛起，这种技术被用于沉积集成电路中晶体管的金属电极层，80 年代以后得 到了迅速发展。目前，磁控溅射技术已相对成熟，广泛应用于微电子、光电、材料表面处理 等领域[1] 。 溅射法是一种比较成熟的薄膜制备技术，这种方法是利用电场作用下高速运动的离子轰 击靶材，将靶上轰击下来的原子或离子团沉积在衬底上形成薄膜。溅射法包括射频磁控溅射 法反应溅射、多元靶溅射及离子束溅射等。射频磁控溅射是制备铁电薄膜最成熟的方法，正 广泛用于制备各种铁电薄膜材料[2] ，Jameo.Im 以Ba0.5Sr0.5TiO3 为靶源，采用磁控溅射技术制 作者简介：李甜(1986-)，女，主要研究方向：铁电材料. E-mail: litian.0126@163.com - 1 - 中国科技论文在线 [3] [4] 备了厚度为80 nm 的薄膜 。陈宏伟 等以Ba ｘSr1-xTiO3 陶瓷靶材