磁盘表面形貌对润滑剂分布和磁头-磁盘之间润滑剂转移的影响.pdf

中国科学: 技术科学 2014 年 第44 卷 第9 期: 939 ~ 945 《中国科学》杂志社 论 文 SCIENCE CHINA PRESS 磁盘表面形貌对润滑剂分布及磁头/磁盘之间 润滑剂转移的影响 潘登, 闫辉, 姜洪源* 哈尔滨工业大学机电工程学院, 哈尔滨 150001 * E-mail: jhy_hit@ 收稿日期: 2014-04-01; 接受日期: 2014-06-11 国家自然科学基金(批准号:资助项目 摘要 磁盘表层润滑剂在磁头与磁盘之间转移会影响磁头飞行的稳定性. 本文采用改进 关键词 后的粗粒珠簧模型, 运用分子动力学方法, 研究了磁盘上类金刚石薄膜(diamond like carbon, 润滑剂转移 DLC)层粗糙度和磁盘表面凸起对润滑剂在磁盘表面分布及磁头/磁盘之间润滑剂转移的影 表面形貌 分子动力学仿真 响. 研究结果表明, DLC 层粗糙度对润滑膜平均厚度及磁盘表层粗糙度的影响很小; 磁盘表 磁头/磁盘界面 面凸起对磁盘表层润滑剂分布的影响明显. 类金刚石薄膜层的粗糙度和磁盘表层凸起均可 增加转移到磁头上的润滑剂的体积. 但磁盘表层粗糙度对磁头/磁盘之间润滑剂转移量的影 响明显低于由磁盘表层凸起导致的磁头/磁盘之间润滑剂的转移量. 1 引言 的厚度[5] 都可以减少磁头/ 磁盘之间的润滑剂转移. Man 等人[7] 的研究结果表明磁头的空气轴承表面设 商用硬盘的盘片表面涂有一层12~14 Å 的全氟聚 计会对磁头/磁盘之间的润滑剂转移产生影响. 当磁 醚(perfluoropolyether, PFPE), 用于减少磁头与磁盘之 头飞行高度在 3.5 nm 左右时, 磁头与磁盘之间的距 间的接触, 进而保护位于磁头末端的读写元件[1]. 目 离接近润滑剂分子的平均自由程, 蒸发后的润滑剂 前, 磁头末端的读写元件与磁盘之间的距离已下降到 分子会附着并凝结在磁头表面. 较小的磁头末端凸 2 nm 以下. 即使磁头与磁盘之间不发生接触, 位于磁 台(pad)会增加磁头的空气轴承刚度, 减小润滑剂的 盘上的润滑剂分子也会转移到磁头上[2]. 润滑剂在磁 重新分布, 进而减小润滑剂转移量. Kim 等人[8] 的研 头与磁盘之间的转移可改变磁头与润滑剂分子之间的 究结果表明增加环境的绝对湿度会增加润滑剂的转 [3] 作用力, 静电力等, 进而降低磁头飞行的稳定性 . 移量. 因为环境绝对湿度的增加就意味着环境中水 因此, 对磁盘表层润滑剂的分布状态及其转移影响 分子的含量增加, 水分子含量的增加会减小润滑剂 因素进行深入研究是非常重要的. 分子与DLC(diamond like carbon)层之间的键合作用. 学者们对磁头/磁盘之间润滑剂转移的数值研究 因此润滑剂分子更容易转移到磁头上. Tani 等人[9] 的 结果表明: 增加润滑剂分子的重量[4], 增加润滑剂的 研究结果表明磁头/磁盘之间的润滑剂转移受润滑