集成电路制备工艺.pptVIP

双极集成电路的基本制造工艺 双极集成电路中的元件结构 双极集成电路的基本工艺 MOS集成电路的基本制造工艺 MOS集成电路中的元件结构 MOS集成电路的基本工艺 BiCMOS工艺 3.名词解释：隐埋层、寄生晶体管、电隔 离(集成电路中)、介质隔离、PN结隔离 * * 集成电路的基本概念 半导体集成电路的分类 半导体集成电路的几个重要概念 内容概述 集 成 电 路 双极型集成电路 MOS集成电路 按器件类型分 按集成度分 SSI（100以下个等效门） MSI（103个等效门） LSI （104个等效门） VLSI（104个以上等效门） TTL、ECL I2L等 PMOS NMOS CMOS 集成度、工作频率、电源电压、特征尺寸、硅片直径 按信号类型分 模拟集成电路 数字集成电路 BiCMOS集成电路 数模混合集成电路 第一章 集成电路制造工艺 双极集成电路的基本工艺 双极集成电路中元件结构 1. 二极管 （PN结） 正方向 反方向 V I 电路符号： + - 有电流流过 没有电流流过 对于硅二极管，正方向的 电位差与流过的电流大小 无关，始终保持0.6V-0.7V P-Si N-Si + - 1. 二极管 （PN结） n p 2. 双极型 晶体管 p n p B端 E端 C端 E C B n p n B端 E端 C端 C B E N