Ta2O5Si薄膜界面结构及光催化活性.pdfVIP

理化学学报(Wuli Huaxue Xuebao) May Acta Phys. Chim. Sin., 2007, 23(5) ：625-629 625 [Article] Ta O /Si 薄膜界面结构及光催化活性 2 5 彦 姚文清 朱永法 (清华大学化学系, 北京 100084) 摘要： 利用溶胶凝胶法和旋转镀膜法在单晶Si(110)基底上制备了Ta O 光催化剂薄膜. 薄膜颗粒的晶粒度和 2 5 大小随着热处理温度的升高而增加. 利用扫描俄歇电子能谱(AES)的表面成分分析、深度剖析和线形分析技术研 究了热处理温度对Ta O /Si 样品膜层和基底的界面化学状态和相互作用的影响规 . 研究表明, 在700 益以下 2 5 热处理时, Ta O /Si 薄膜界面处以扩散作用为主; 在800 益高温热处理时, 在界面扩散的同时也引发界面反应, 生 2 5 成了SiO2 种, 界面扩散和界面反应会对薄膜和基底元素的化学价态发生影响. 在紫外光下降解水杨酸的光催 化活性的研究表明, 在600 益下焙烧制备的Ta O /Si 薄膜具有与TiO /Si 薄膜相当的光催化活性. 2 5 2 关键词： Ta O /Si 薄膜; 俄歇电子能谱; 界面扩散; 界面反应; 光催化活性 2 5 中图分类号： O644 Interfacial Structure of Ta O /Si Film and Photoactivity 2 5 WU Yan YAO Wen Qing ZHU Yong Fa (Department of Chemistry, Tsinghua University, Beij ing 100084, P. R. China) Abstract ： Tantalum oxide (Ta O ) thin film photocatalysts were prepared on single crystal Si(110) substrates v ia sol