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3讲场效应管
第四节 场效应晶体管
场效应管的特点:
输入阻抗高、温度稳定性好、低噪声、易集成化
分类:
结型(JFET)和绝缘栅型(MOS)
一、结型场效应管(JFET)
1 结构与工作原理
场效应管(FET)是利用电场效应来控制电流的一种半导体器件,属于压控器件。由于它仅靠多子参加导电,又称单极型晶体管。
结型场效应管又有N沟道和P沟道两种类型。
(FET)
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场效应管结构特点
N·JFET的结构及符号
两个PN结之间的N沟道
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①UDS决定耗尽层的楔形程度
②UGS决定沟道的宽窄
③UDS、UGS同时作用
场效应管工作原理
N沟道在耗尽层楔形基础上,随UGS作宽窄变化,从而控制ID的大小。
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(1)转移特性及特征方程
①当UGS=0时,N沟道最宽,ID最大,记作IDSS,称最大饱和漏电流。
②当UGS<0时,两个耗尽层加厚,ID成指数规律下降,其特征方程为
③当 时,N沟道被夹断,ID≈0,管子截止。
2 结型场效应管的特性曲线
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(N·JFET的特性曲线)
(2)漏极特性
可变电阻区、
(漏极特性与BJT管的输出特性相仿,也分为三个区)
饱和区(恒流区) 、
击穿区
iD几乎仅决定于uGS
夹断电压
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P·JFET
P·JFET的特性曲线
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二、绝缘栅场效应管(MOS管)
JFET的缺点
MOS管的特点
MOS管分为四种类型:N沟道耗尽型管、N沟道增强型管、P沟道耗尽型管和P沟道增强型管。
输入阻抗高、栅源电压可正可负(耗尽型)、耐高温、易集成。
(1)结构与符号
1 N沟道耗尽型绝缘栅场效应管(N沟道耗尽型MOS管)
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(2)N沟道的形成
(N沟道的形成与外电场对N沟道的影响 )
控制原理(分四种情况讨论)
① 时,外电场UGS使SiO2中的正电荷数目增加,N沟道中的电子数量随之增加,沟道变宽,沟道电阻减小,漏电流成指数规律增加。
② 时,N沟道已经存在,因此 不为零,仍记作IDSS,但不是最大值。
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③ 时,外电场使SiO2绝缘层中正电荷的数目减少,沟道变窄,沟道电阻增加,漏电流ID成指数规律减小。
④ 时,SiO2层中的正电荷全部被中和,N沟道不存在了,沟道电阻为无穷大,漏电流 ,管子截止。
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