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机电助理工程师职称论文（浅析机电技术在真空磁控溅射镀膜设备上的应用）——蒋攀成都巨峰玻璃有限公司（157厂）2016年8月目录摘要11 机电技术简概22 真空磁控溅射镀膜原理及其特点22.1 真空磁控溅射镀膜原理22.2 真空磁控溅射镀膜特点23 真空磁控溅射镀膜设备33.1 机械部分33.1.1 真空室33.1.1.1 壳体33.1.1.2 真空室门33.1.1.3 真空室冷却套43.1.2 磁控溅射靶43.1.2.1 磁场强度43.1.2.2 磁场均匀性53.1.2.3 磁控溅射靶的水冷系统53.1.3 工作架53.1.3.1 摩擦传动工作架53.1.3.2 齿轮传动工作架53.1.4 充气布气系统53.1.4.1 充气布气管路63.1.4.2 充气布气的控制63.1.5 真空系统63.1.5.1 典型真空系统63.1.6 加热系统63.1.6.1 加热器63.1.6.2 测温装置63.2 控制部分73.2.1 电导入导出系统73.2.1.1 绝缘与导电性能要求73.2.1.2 密封性能要求73.2.2 电气控制系统83.2.2.1 传感器83.2.2.2 电路83.2.2.3 终端84参考文献8附图1 9摘要常言道：兵马未动，粮草先行。设备对于企业的重要性不言而喻，设备是技术研发的基础，更是批量生产的保障。真空磁控溅射镀膜设备是保障军用航空透明件镀制透明导电膜的关键，而机电技术在真空磁控溅射镀膜设备上有着众多应用。设备人员了解真空磁控溅射镀膜设备的结构及其工作方式，有助于其保养、维修以及改进；技术人员掌握真空磁控溅射镀膜设备的相关知识并综合应用，有助于减少生产成本、缩短研发周期以及提高生产效率。关键词：机电技术、真空磁控溅射技术、真空磁控溅射镀膜设备。机电助理工程师职称论文（浅析机电技术在真空磁控溅射镀膜设备上的应用）1 机电技术简概机电技术是由计算机技术、信息技术、机械技术、电子技术、控制技术、光学技术等多技术融合构成的一门独立的交叉学科。现代科技技术的发展对机电技术的发展起着巨大的推进作用，使得机电技术逐渐趋向于高精度化、高柔性化以及高智能化等。2 真空磁控溅射镀膜原理及其特点真空磁控溅射镀膜设备是在直流溅射阴极靶中增加了磁场，利用磁场的洛伦兹力束缚和延长电子在电场中的运动轨迹，导致气体分子的离化率增加，使得轰击靶材的高能离子增多和轰击被镀基片的高能电子的减少。2.1 真空磁控溅射镀膜原理在压力为10-1~10-2Pa的真空容器内，在两个电极间加上由高输出阻抗直流电源控制的直流电压，低压气体会产生‘辉光放电效应’并进行离化，离化后的正离子经过电场加速入射到阴极靶材表面，入射离子与靶材中的原子（分子）和电子相互作用，击出阴极靶材的原子（分子）；击出阴极靶材的原子（分子）具有一定的能量，它们可以重新沉积凝聚在基片表面形成薄膜。而离化后的电子在磁场的洛伦兹力和电场的的电场力共同作用下，在靶表面附近以旋轮线和螺旋线的复合形式做回旋运动，使电子的运动被电磁场束缚在靠近靶表面的等离子区域内，使其达到阳极的行程大大增长，从而极大程度地增加了溅射气体的离化率和溅射速率。2.2 真空磁控溅射镀膜特点①工作参数有大的动态调节范围，镀膜沉积速度和厚度（镀膜区域的状态）容易控制；②对磁控靶的几何形状没有设计上的限制，以保证镀膜均匀性；③膜层没有液滴颗粒的问题；④几乎所有金属、合金和陶瓷材料都可以制成靶材料；⑤通过直流或射频磁控溅射，可以生成纯金属或配比精确恒定的合金镀膜，以及气体参与的金属反应膜，满足各类薄膜等多样和高精度要求。3 真空磁控溅射镀膜设备真空磁控溅射镀膜设备在机电技术上可分为机械部分以及控制部分。机械部分可分为真空镀膜室、磁控溅射靶、工作架、充气布气系统、真空系统、加热系统。控制部分可分为电导入导出系统及电气控制系统。3.1 机械部分3.1.1 真空室真空室是真空镀膜设备的核心部件，各种真空镀膜工艺必须在真空室中进行。真空室为承受外压的容器，对于不带水冷套的真空室，其内外压差的最大值相当于大气压；若镀膜室带有水冷套，其内外压差除大气压力外，还应加上水冷套冷却水的最大工作压力。因此，对真空室的材质要求是可焊性好、气密性优异。真空室可分三个部分：壳体、真空室门、真空室冷却套。3.1.1.1 壳体壳体的结构应便于加工制造和内部构件的组装，工作时应便于操作，且应具有良好的刚度稳定性，特别是在热态工作条件下，大多数镀膜设备采用圆筒形或矩形的金属焊接结构。为减小壳体的壁厚常常使用加强圈或者加强筋。3.1.1.2 真空室门真空室门通常由法兰、