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激光参数对KDP晶体损伤的影响综述摘要：本文总结近年来对KDP晶体激光诱导损伤的研究，探讨不同的激光参数对KDP晶体损伤密度、形态的影响。关键词：激光，能量，波长，脉冲宽度，KDP晶体引言磷酸二氢钾（KDP）晶体和磷酸二氘钾（DKDP）晶体是惯性约束核聚变（ICF）高功率激光器中用于电光开关以及激光倍频和三倍频的光学材料[1]。这些材料中的激光诱导损伤会散射光线以及增加光束对比度，这反过来又会使下游光学元件损伤的可能性增加[8]。为避免激光诱导损伤限制了系统的设计和性能。对于高功率激光器来说,虽然光学元件的发展和使用过程中遇到许多技术和科学上的挑战,但是最关键和最重要的挑战或许是如何尽可能的减少和消除强激光辐照所导致的元件损伤,这也是目前制约大型激光系统向更高更强发展的最大瓶颈。强激光作用下的光学元件损伤是一个复杂的物理、化学过程，取决于激光参数、材料性质和使用环境参数。本文主要探讨不同的激光参数会对KDP晶体的损伤产生怎样的影响。二、激光参数对损伤的影响1.激光能量和激光功率对损伤的影响对大型长脉冲和连续激光系统，每秒钟辐照到作用区域单位面积上的能量达到上千焦耳。由于作用时间长，损伤主要以加热后的融化和气化为主。对于短脉冲激光(脉冲宽度在飞秒至纳秒范围)，其峰值功率非常高，多光子电离和雪崩电离是主要的损伤机制。高功率激光对光学元件的损伤。起因往往都是高吸收和电场强度导致的非线性效