透射电镜原理课件.pptVIP

现代分析测试技术;目录;第一章透射电镜简介; 概念：透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope，TEM）是以波长极短的电子束作为照明源，用电磁透镜聚焦成像的一种高分辨本领、高放大倍数的电子光学仪器。 简史： 1933年，德国科学家卢斯卡（Ruska）和克诺尔（Knoll）研制出了世界上第一台透射电镜，到今天，透射电镜已经诞生了70多年，由电镜应用而形成的交叉性学科——电子显微学已经日趋完善，电镜的分辨能力也比最初时提高了超过100倍，达到了亚埃级，并且在自然科学研究中起到日益重要的作用。;;1.2.2显微镜的分辨率 通常人眼的分辨本领大概是0.2mm（即人眼可分辨的两点间最小距离 为0.2mm） 显微镜可分辨的两点间的最小距离，即为显微镜的分辨率 ;采用物镜的孔径角接近90度 考虑采用可见光波长极限390nm的光束照明显微镜系统，可得d 约为200nm 对于TEM在100kV加速电压下，波长0.0037nm，d约为0.002nm，目前电子显微镜达不到其理论极限分辨率，最小分辨率达到0.1nm;1.2.3有效放大倍数 光学显微镜必须提供足够的放大倍数，把它能分辨的最小距离放大到人眼能分辨的程度。相应的放大倍数叫做有效放大倍数，它可由下式来确定： ;光学显微镜的有效放大倍数; 分类：透射电子显微镜（简称透射电镜，TEM）可以以几种不同的形式出现： 高分辨透镜（HRTEM）：JEM2100，点分辨率：0.23 nm，晶格分辨率：0.14 nm,最小束斑尺寸0.5nm 透射扫描电镜（STEM）: 利用磁透镜将电子束聚焦到样品表面并在样品表面快速扫描，通过电子穿透样品成像，既有透射电子显微镜功能，又有扫描电子显微镜功能的一种显微镜。 分析型电镜(AEM):JEM2010HF,点分辨率: 0.25 nm,晶格分辨率: 0.19 nm,最小束斑尺寸1.5nm ;;JEM-2100透射电镜外观图;分析型透射电子显微镜;第二章基本构造及各部分结构原理;透射电镜的总体工作原理;图1.透射电镜电子光学部分基本构造示意图; 照明系统由电子枪、聚光镜和相应的平移对中及倾斜调节装置组成。它的作用：为成像系统提供一束亮度高、相干性好的照明光源；选择照明方式（明场或暗场成像）。;阴极、阳极和控制极决定着电子发射的数目及其动能，习惯通称为“电子枪”。 会聚电子束；控制电子束电流大小，调节像的亮度。 电子枪的重要性仅次于物镜。决定像的亮度、图像稳定度和穿透样品的能力。;热电子枪和场发射电子枪的工作原理; 电子源：在真空中通电加热后使从阴极发射的电子有较高的动能形成定向高速电子流。 热电子发射：金属(W)或单晶硼化物(LaB6)加热到高温时(2800K)，发射出热电子……. 场发射：把单晶钨做成细的尖端（发射体），尖端表面在强的电场作用下（如107V/cm），电子被拔出… 场发射分为冷场发射和热场（肖特基）发射;（3）阳极;2. 聚光镜;2.1.2样品室;透射电镜极靴的构造;2.1.3成像系统;材料研究中，希望弄清很小区域的结构和形貌， 既要观察其显微像（形貌），又要得到其衍射花样（分析结构）。 衍射状态与成像状态的变换是通过改变中间镜的激磁电流实现的。 先观察显微像，再转换到衍射花样。;;2.2真空系统;2.3电源及控制系统;第三章透射电镜成像原理;1.电子与物质的相互作用：;透镜的成像过程一般可分为两个过程： 第一个过程是平行电子束遭到物的散射作用而分散成各级衍射谱，即由物变换到衍射谱的过程； 第二个过程是各级衍射谱经过干涉重新在像平面上汇聚成诸像点，即由衍射重新变换成物（放大了的物）的过程。;吸收像 ：当电子射到质量、密度大的样品时，主要的成相作用是散射作用。样品上质量厚度大的地方对电子的散射角大，通过的电子较少，像的亮度较暗。早期的透射电子显微镜都是基于这种原理。 衍射像：电子束被样品衍射后，样品不同位置的衍射波振幅分布对应于样品中晶体各部分不同的衍射能力，当出现晶体缺陷时，缺陷部分的衍射能力与完整区域不同，从而使衍射波的振幅分布不均匀，反映出晶体缺陷的分布。 相位像：当样品薄至100?以下时，电子可以传过样品，波的振幅变化可以忽略，成像来自于相位的变化。;3.3透射电子显微像的衬度来源及分类;3.3.1 相位衬度 由合成像的透射波和衍射波之间的相位差形成的，成为相位衬度。需要在物镜的后焦面上插入大的物镜光栅，使以上两个波干涉形成像。 3.3.2 振幅衬度 振幅衬度是由于入射电子通过试样时，与试样内原子发生相互作用而发生振幅的变化，引起反差。振幅衬度主要有质厚衬度和衍射衬度两种。