【2017年整理】薄膜物理期末考试孙喜莲版.docVIP

薄膜物理与技术（孙喜莲版） 一：填空题 1. 为了研究真空和实际使用方便，根据各压强范围内不同的物理特点，把真空划分为　　　　　　，　　　　　　，　　　　　　，　　　　　　四个区域。 2. 在　　　　　　真空条件下，分子的平均自由程可以与容器尺寸相比拟。 3. 列举三种气体传输泵　　　　　　，　　　　　　和　　　　　　。 4. 气体捕获泵是通过各种　　　材料特有的　　　　　　将被抽气体吸除，以达到所需真空。 5. 真空计种类很多，通常按测量原理可分为　　　　　　和　　　　　　。 6. 气体的吸附现象可分为　　　　　　 和　　　　　　。　 7. 化学气相反应沉积的反应器的设计类型可分为　　　　　　，　　　　　　，　　　　　　和　　　　　　。　　　　　　 8 电镀方法只适用于在　　　　　　上沉积金属和合金，薄膜材料在电解液中是以　　　　　? 　??的形式存在。制备有序单分子膜的方法是　　　　　　。 9 不加任何电场，直接通过化学反应而实现薄膜沉积的方法叫??　　　　　 。 10 物理气相沉积过程的三个阶段：　　　　　　，　　　　　　和　　　　　　。 11.在相同条件下，小平面蒸发源的中心膜厚为点蒸发源中心膜厚的　　　　 倍。 12. 在反应蒸发中，蒸汽原子与活性气体之间的反应主要发生在　　　　　　 。 13. 溅射过程中所选择的工作区域是　　　　　　　　，基板常处于　　　　　　区，阴极和基板之间的距离至少应是　　　　　　　宽度的两倍。 14. 在气体成分和电极材料一定条件下，起辉电压V只与 　　　　　　　和　　　　　　　 的乘积有关。 15.磁控溅射具有两大特点是　　　　　　 和　　　　　　 。 16.直流二极溅射依赖离子轰击阴极所发射的次级电子来维持? 　　　　　　 。 17.射频电极在靶材上的　　　　　　效应使得气体离子对其自发的轰击和溅射。 18.在离子镀成膜过程中，同时存在　　　? ?和? 　　　作用，只有当前者超过后者时，才能发生薄膜的沉积。 19 薄膜的形成过程一般分为：　　　　　　、　　　　　　、　　　　　　。 20 原子聚集理论中最小稳定核的结合能是以　　　　　　为最小单位不连续变化的。 21薄膜成核生长阶段的高聚集来源于：　　　　　　、　　　　　　、　　　　　　。这些结论假设凝聚系数为常数，基片具有原子级别的平滑度。 22 薄膜生长的三种模式有　　　　　　　　、　　　　　　　　、　　　　　　　　。 23 在薄膜中存在的四种典型的缺陷为：　　　　　　 、　　　　　　、　　　　　　和　　　　　　 。 24 列举四种薄膜组分分析的方法：　　　　　　 、　　　　　　、　　　　　　和　　　　　　 。　　　　　　　 25 电子衍射图案对于单晶衍射为　　　　　　　，精细多晶为　　　　　　　，大晶粒多晶且包含织构?????? 为　　　　　　　　　。 26 红外吸收是由引起　　　　变化的分子振动产生的，而拉曼散射则是由引起　　　　变化的分子振动产生的。由于作用的方式不同，对于具有对称中心的分子振动，　　　不敏感，　　　　敏感；相反，对于具有反对称中心的分子振动，　　　　　敏感而　　　　　不敏感。对于对称性高的分子振动，　　　　　　敏感。 27 薄膜应力是薄膜重要的力学性质，它对薄膜的实际应用影响很大，它可以分为　　　　　和　????? 　　　。 28 　　　　　　 　和　　　　　 　　是测量薄膜样品中分子振动的振动谱，前者是　　　　　　光谱，而后者是　　　　　　光谱。 29 表征溅射特性的主要参数有　　　　　　、　　　　　　、溅射粒子的速度和能量等。 30 薄膜的组织结构分为四种类型：　　　　　　　，　　　　　　　， 　　　　　　和　　　　　　　　。 1.粗真空；低真空；高真空；超高真空2.低3.旋转式机械真空泵；油扩散泵；复合分子泵4.吸气；吸气作用5.绝对真空计；相对真空计6.物理吸附；化学吸附7.常压式；低压式；热壁式；冷壁式8.导电的基片；正离子；铺展9.化学镀10.从源材料中发射出粒子；粒子输运到基片；粒子在基片上凝结、成核、长大、成膜 11.?412.基片上13.异常辉光区、负辉光区、克鲁克斯暗区14.气体压强p和电极距离15.较低工作压强下得到较高沉积率、较低基片温度下获得高质量薄膜。16.辉光放电17.负偏压18.沉积、溅射19.凝结过程、核形成与生长过程、岛形成与结合生长过程20.原子对的结合能 21（1）高的沉积温度；（2）气相原子的高的动能，对于热蒸发意味着高沉积率；（3）气相入射的角度增加。这些结论假设凝聚系数为常数，基片具有原子级别的平滑度。 22.薄膜形成与生长的三种模式：层状生长，岛状生长，层状-岛状生长 23.空位、间隙原子、晶