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九讲21MEMS

第九章微制造综述 ;二、表面微加工;MEMS 器件的表面微加工流程;牺牲层技术;Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd.;影响牺牲层腐蚀的因素;表面微加工中的力学问题;Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd.;Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd.;Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd.;解决方法;Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd.;应用举例 利用牺牲层制造硅梁的过程;B、局部氧化生成SiO2 ;C、淀积多晶硅并刻微梁 ;D、横向腐蚀形成空腔 ;表面微机械加工应用材料;1、多晶硅表面微机械加工 在多晶硅的表面微机械加工中,以掺杂或 未掺杂的多晶硅作为结构材料,氧化硅作为 牺牲层材料,氮化硅作为基体绝缘材料,HF 酸作为化学腐蚀剂组成一组合理的材料系。;1)、多晶硅材料的主要特点;3)、淀积态的薄膜应力;薄膜内存在的应力梯度形成一个挠矩,使细长条的微结构发生挠曲。 晶体薄膜的平均应力和应力梯度受结晶位向的影响较大,[110]位向,应力值最大;无规取向,应力值最低。;4)、未掺杂薄膜的退火;5)、原位掺杂;2、二氧化硅表面微机械加工 ;3、氮化硅;表面微机械加工的特点;3、形成层状结构的特点为微器件设计提 供较大的灵活性 4、可实现微小可动部件的加工 5、与IC工艺兼容性好 ;表面微机械加工技术的应用 ;三、LIGA工艺;主要特点;对微结构的横向形状没有限制,横向尺寸可小到0.5um加工精度可达0.1; 用材广泛 与微电铸 、注塑巧妙结合可实现大批量复制生产,成本低。 ;3、微电铸工艺;Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd.;Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd.;LIGA工艺中的基底材料;光刻胶材料;深X-射线光刻地光刻胶性质;电镀;SLIGA工艺;其它LIGA工艺介绍

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