第一章:二极管的构成原理.doc

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第一章:二极管的构成原理

第一章:二极管的构成原理(要点) 常用半导体器件有二极管和三极管,常用三极管又分为双极性管与MOS管。 §1 二极管的电路功能与构成原理 二极管的描述:PN结的单向导电性是由于在不同极性的外加电压下,载流子的不同传输过程形成的。 半导体的输入信号(直流正向电压与负向电压,交流电压),输出信号(正向导通电压,负向稳压;正向电流,负向饱和电流;扩散电容(正向导通),势垒电容(负向电压))。半导体对输入信号的作用:①正向直流电压:数字开关—导通;正向小电源---预置电压;正向电流; 扩散电容②反向直流电压:数字开关—截止;饱和负向电流;反向稳压;势垒电容.③交流电压.正向电流随外加电压的微小变化有显著变化,利用导通状态二极管电阻动态微小性.(变容二极管的原理不是很清楚??) 常量:二极管导通电压. 在电路中,导通状态的二极管可作为三类器件使用:导线(称为理想二极管);固定电源;固定电源电阻;断开状态的二极管相当于断路。理想二极管导通—断开两种状态,可以作为数字开关;利用固定电源特性,二极管可作为限幅电路;有内阻的电源??二极管的电路功能,与二极管的内部构成相关,将PN结用外壳封装起来,并加上电极引线就构成半导体二极管。 1.1 PN结的构成与特性方程 PN结的形成,用在同一块硅片上的P型半导体与N型半导体直接接触制作而成.半导体根据材料特性分为纯净半导体与杂质半导体. 1.1.1 本征半导体 将纯净的半导体经过一定的工艺过程制成单晶体,称为本征半导体.晶体中的原子在空间形成排列整齐的点阵,称为晶格.本征半导体晶格结构中的相邻原子因为相互间的引力,使距离变短,它们的外层电子构成共价键结构.4价半导体每个共价键有两个价电子,每个原子存在四个共价键。硅是4价元素。 在常温条件下,本征半导体的导电特性. 常温中, 本征半导体存在热激发,但是共价键有很强的结合力,仅有极少数价电子从晶格环境的热量中取得能量,摆脱共价键的束缚,成为自由电子;与此同时,在共价键中留下一个空位,称为空穴.因此,本征半导体中出现一个空穴,是因为有一个自由电子,所以两者成对出现,数目相同。本征半导体在热激发下产生自由电子和空穴对的现象称为本征激发。自由电子在运动的过程中若与空穴相遇会填补空穴,使两者同时消失,这种现象称为复合。在一定温度下,本征激发产生的自由电子-空穴对,与复合的自由电-与空穴对数目相等,达到动态平衡。自由电子和空穴所带电荷极性不同,所以它们的运动方向相反,而且本征半导体是电中性的半导体。运载电荷的粒子称为载流子。本征半导体有两种载流子:自由电荷和空穴均能够参与导电。 本征半导体,热运动,本征激发与常温复合的动态平衡,自由电子,空穴 在一定温度下,本征半导体中载流子的浓度一定,自由电子的浓度与空穴的浓度相等,而且本征半导体载流子的浓度是环境温度的函数。理论分析表明,本征半导体载流子的浓度为: 式中:两类载流子的浓度单位(),T为热力学温度,k为波尔兹曼常数(),EGO为热力学零度时破坏共价键所需的能量,称为禁带宽度(硅为1.21eV,锗为0.785eV),K1是与半导体材料载流子有效质量和有效能级密度有关的常量(硅为,锗为)。 ①;②,因此,本征半导体导电能力(载流子的浓度)具有温度敏感性,环境温度造成本征半导体稳定性差。本征半导体载流子的浓度是环境温度,材料载流子性质,材料禁带宽度的函数。 本征半导体结构,自由电子-空穴参考图示见下图: 1.1.2 杂质半导体 本征半导体的载流子浓度具有温度敏感性,不可控制,而且两类载流子数目相同,所以本征半导体的导电性不能利用。通过扩散工艺,在本征半导体中掺入少量合适的杂质元素,可得到杂质半导体。杂质半导体中两类载流子的浓度不同,可作导电材料。掺入不同的杂质元素,可形成N型半导体和P型半导体,分别使自由电子或空穴的浓度远远大于另一类载流子浓度。控制掺入杂质元素的浓度,可控制杂质半导体的导电性能。 一 N型半导体 在纯净的硅晶体中,掺入五价元素(如磷),取代晶格中硅原子的位置,就形成了N型半导体。在N型半导体晶格中,一个杂质原子最外层有5个电子,与4个相邻硅原子形成4个共价键,因此有一个电子不受共价键的束缚,常温下热激发,就可成为自由电子;五价杂质原子固定在晶格上,缺少一个电子,成为不能移动的正离子。因此有一个来自杂质的自由电子,就有一个杂质正离子,因此N型半导体是电中性的。N型半导体中,自由电子的浓度大于空穴的浓度,称自由电子为多数载流子(简称多子),空穴为少数载流子(简称少子)。因为五价杂质原子提供电子,所以称为施主原子。杂质原子的浓度决定多数载流子的浓度。 二 P型半导体 在纯净的硅晶体中,掺入三价元素(如硼),取代晶格中硅原子的位置,就形成了P型半导体。在P型半导体晶格中,一个三价杂质原子最外层有3个电子,

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