9.1 气相沉积技术.pptVIP

　 真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的薄膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。 因此真空镀膜技术被誉为最具发展前途的重要技术之一，并已在高技术产业化的发展中展现出诱人的市场前景。 一、引言 1   四、薄膜的形成 1. 吸附现象 (1) 反射---入射原子没有将其能量释放，又重新回到空间。 (2) 物理吸附---范德华力结合 (3) 化学吸附---形成电子共有的化学键 (4) 吸附原子的迁移及与同类原子的缔合 2 2. 薄膜的生长方式 薄膜生长有三种基本类型： 核生长型 (Volmer-Weber) 层生长型 (Frank-Van der Merve) 层核生长型 (Straski-Krastanov) 3 9.3 溅射镀膜 溅射镀膜：是指在真空室中，利用荷能粒子轰击镀料表面，使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。 溅射镀膜有两种： 一种是在真空室中，利用离子束轰击靶表面，使溅射出的粒子在基片表面成膜，这称为离子束溅射。 4 离子束要由特制的离子源产生，离子源结构较为复杂，价格较贵，只是在用于分析技术和制取特殊的薄膜时才采用离子束溅射。 另一种是在真空室中，利用低压气体放电现