椭偏法测薄膜厚度 赵发基.docxVIP

椭偏法测薄膜厚度一实验目的测量透明介质薄膜厚度和折射率。测量布儒斯特角，验证马吕斯定律及偏光分析等偏振实验。二实验仪器WJZ-II椭偏仪结构如下图所示:1、半导体激光器 2、平行光管3、起偏器读数头（与6可换用）4、1/4波片读数头 5、氧化锆标准样板6、检偏器读数头 7、望远镜筒 8、半反目镜 9、光电探头 10、信号线11、分光计12、数字式检流计三实验原理1.介质膜的测量使一束自然光经起偏器变成线偏振光。再经1/4波片，使它变成椭圆偏振光入射在待测的膜面上。反射时，光的偏振状态将发生变化。通过检测这种变化，便可以推算出待测膜面的某些光学参数（如膜厚和折射率）。2.椭偏方程与薄膜折射率和厚度的测量下图所示为一光学均勻和各向同性的单层介质膜。它有两个平行的界面。通常，上部是折射率为n1的空气（或真空）。中间是一层厚度为d折射率为n2 的介质薄膜，均勻地附在折射率为n3的衬底上。当一束光射到膜面上时，在界面1和界面2上形成多次反射和折射，并且各反射光和折射光分别产生多光束干涉。其干涉结果反映了膜的光学特性。根据电磁场的麦克斯韦方程和边界条件及菲涅尔反射系数公式，我们可以推导出如下椭偏方程（推导过程略）金属复折射率的测量 .介质膜对光的吸收可能忽略不计，其折射率为实数，.当测量表面为金属时，由于其为电媒质,存在不同程度的吸收，根据相关理论，金属的介电常数是复数，其折射率也是复数。四实验内容1.将被测样品，放在载物台的中央，旋转载物台使达到预定的入射角即望远镜转过，并使反射光在目镜上形成一亮点。2.为了尽量减少系统误差，采用四点测量。先霄1/4波片快轴于+45°（即转动波片盘），仔细调节检偏器A和起偏器P，使目镜内的亮点最暗（或检流计值最小），下A值和P值，这样可以测得两组消光位置数值，其中A值分别大于90°和小于90°，分别定为A1(90°)和A2 (90°)，所对应的P值为P1和P2。然后将1/4波片快轴转到-45°,也可找到两组消光位置数值，A值分别记为A3 (90°）和A4 (90°),所对应的P值为P3和P4。将测得的4组数据输入电脑上仪器所配套的软件，求得薄膜厚度d和折射率n。五实验原始测量数据记录样品标称值：d=88.0nm n=1.999+45°-45°A1A2P1P2A3A4P3P494.6°83.8°130.2°44.9°93.7°83.9°139.7°46.5°六数据处理与结果讨论将测量数据输入电脑，求得d=95.4nm，n=1.945相对误差：薄膜厚度折射率结果讨论：本实验主要误差来源于实验平台的水平调整，起偏器、验偏器的调整及读数等仪器的调整、测量均由人眼来判断，存在不可避免的人为误差；消光时，检流计的读数不能完全为零，这也增加了实验的误差。七、参考文献：椭圆片阵法测量薄膜厚度、折射率和金属复折射率：椭圆偏振法简称椭偏法，是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法。椭偏法的基本原理由于数学处理上的困难，直到本世纪 40 年代计算机出现以后才发展起来。椭偏法的测量经过几十年来的不断改进，已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测，极大地促进了纳米技术的发展。椭偏法的测量精度很高（比一般的干涉法高一至二个数量级），测量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于 0.1nm 的厚度变化)。利用椭偏法可以测量薄膜的厚度和折射率，也可以测定材料的吸收系数或金属的复折射率等光学参数。因此，椭偏法在半导体材料、光学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。通过实验，读者应了解椭偏法的基本原理，学会用椭偏法测量纳米级薄膜的厚度和折射率，以及金属的复折射率。椭偏法测量的基本思路是，起偏器产生的线偏振光经取向一定的 1／4 波片后成为特殊的椭圆偏振光，把它投射到待测样品表面时，只要起偏器取适当的透光方向，被待测样品表面反射出来的将是线偏振光。根据偏振光在反射前后的偏振状态变化（包括振幅和相位的变化），便可以确定样品表面的许多光学特性。