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第三章三维奈米结构阵列的光学模拟分析
第三章 三維奈米結構陣列的光學模擬分析
本章節透過FullWAVE 4.0商業光學模擬軟體的一種數值運算方
法:時域有限差分法(FDTD )來分析連續型三維之抗反射表面結構,
並且模擬不同的結構形狀與不同深寬比所造成的抗反射效果。
3.1 FullWAVE軟體簡介
本軟體係由美國Rsoft Design Group 公司所開發,它是一高度整
合之複雜光子元件模擬設計分析軟體,它使用-有限差分時域 (Finite
Difference Time Domain ) 之模擬分析方法,藉以分析一般光束傳播
法(Beam-Propagation-Method, BPM )所無法建立模型分析的光子元
件。首先在 Rsoft CAD視窗下建立 2D的圖形結構,接著可針對每個圖
形做週期性與非週期性的不同間距排列,如圖3.1所示。建立 2D的圖
形結構後,我們必須對每個元素設定它的高度,使模擬過程符合實際
情形。
圖 3.1 Rsoft CAD視窗建立 2D模式
32
3.2 奈米結構形狀設計
3.2.1 三角錐結構設計
首先設計三角錐結構( triangular structure )形狀,平面形狀如圖
3.2(a)所示。定義圖形的符號週期為Λ、高度為d、空氣與基材折射率
分別為n0 與ns 。而設定的參數值如表3.1所示。結構的深寬比( aspect
ratio )為d Λ 。而在光學軟體中搭配參數值所繪製的三維形狀如圖
3.1(b)所示。
(a) (b)
圖 3.2 (a)三角錐結構平面示意圖 (b) 三角錐結構三維示意圖
表3.1 三角錐結構參數設定值
項目 參數值(nm)
Λ 300
d 150~600
n 1.0
0
n 1.54
s
而上述是有關圖形單一結構之定義。為了與將來實驗製作針尖陣列關
係,我們將分析連續型之三維空間型態,如圖 3.3所示。
33
圖 3.3 連續型之三維三角錐結構
3.2.2 半圓形柱結構設計
設計半圓形柱結構( semicircular structure )形狀,其設計方式與定義
圖形的符號猶如三角錐結構一樣,如圖 3.4所示。而設定的參數值如
表3.2所示。
(a) (b)
圖 3.4 (a) 半圓形柱結構平面示意圖 (b) 半圓形柱結構三維示意圖
表3.2 半圓形柱結構參數設定值
項目 參數值(nm)
Λ 300
d 150~600
n 1.0
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