基于Mie理论的微体缺陷激光测试技术的理论与实验研究.pdfVIP

维普资讯 第 24卷 第 6期 CHINES中EJOU国RNA激LOF光LASERS Vo1．A24，No．6 1997年 6月 June，1997 基于Mie理论的微体缺陷激光测试技术的 理论与实验研究* s _ 9 ． 尤 政 陈军 韧 1N (请华大学精密仪器与机械学系 北京 100084) 提要 提出了一种基于瑞利散射定律及米氏理论(Raylei曲＆hfietheory)的、在垂直于入射光方向 接收散射光 极大提高衬度来检澜f材料内部微／纳米级体缺陷的无损检测新途径，叙述了有关的理 论基础t进行了系统的计算机仿真与实验研究，验证了理论的正确性及方案的可行性，说明利用光 散射测量微／纳米级体缺陷是可行的，进而为下一步的激光扫描层析技术(LS13打下了基础。 l 料的内部性能提出了越来越高的要求。此时材料内部结构的一致性已是微器件功能能否实现 的重要因素之一 鉴此，近年来对材料内部微 ／纳米级体缺陷的测试，日益受到了国内外专家的 重视[。 当前，对材料内部微体缺陷的测试，发展出的途径主要是：透射电镜(TEM)法、超声显微 法、声发射法及X射线法等。透射电镜法一般适用于缺陷密度较高的样板的检测，且需要进行 耗时很多、难度很大的样品的减薄制备(一般采用离子溅射减薄方法，将具有超晶格或多层膜 的区域减薄到电子可 透射的程度)，不仅测量复杂，而且对样品具有破坏性。超声显微与声发 射法属于无损检测方式，但它们获取信息速度慢，实时性差；且由于超声波波长较长，分辨率皆 不高于微米级0]x射线法，特别是软X射线法是近年来发展很快的一种测试材料内部微体 缺陷的途径，但由于其聚焦困难，目前分辨率仍不高于 1阻l[3] 数字化成像技术的发展，使得用光学显微镜的像来给出纳米级尺度缺陷的信息成为可能， 这比衍射极限要小二至三个数量级。为此，本文针对微型机电系统 (MFaMS)技术急需的对硅微 结构内部体缺陷(亚微米乃至纳米级)进行检测，作者提出了一种基于瑞利散射定律及米氏理 论的、在垂直于入射光方向接收散射光以极大提高衬度来检测材料内部微 ／纳米级体缺陷的无 损检测新途径。 *国家自然科学基金和霍英东基盒资助项目。 收稿 日期 ：1996—04—3o；收到修改稿 日期 ：1996—06—25 维普资讯 6期 尤 政 等：基于Mie理论的微体缺路激光测试技术的理论与实验研究 2 微体缺陷激光测试新途径的提出与计算机仿真研究 2．1 微体缺陷激光测试新途径的提出及其理论依据 瑞利散射定律及米氏理论指出[“，平面线偏振光在均匀 媒质中传播时，若其中含有一任意直径及任意成份的微粒，就 会以该微粒O为散射中心发出散射光，如图1所示，且散射光 强是散射角 、粒子直径R及粒子折射率m的函数 1 ()一 j(L+ 2)厶 (1) ‘』、。 。 其中K=2rr／；~…ii2称为米强度系数，它们是散射角 ，折射率 m和粒径参数q一2rrR／,~的函数。 于是，在图1中，若垂直于y轴放置一面阵光探测器M，使 y轴穿过该面阵的中心，则由上所述，0点处有粒子存在时，就 图1球形粒子光散射图 会在入射线偏振光 的照射下有散射光信号进入光探测器M， Ng．1 Coot~ruateofaspherical 光探测器M上接收信号的强弱及分布随着微粒大小及折射率 p~rt[c[escatteredlight 的不同而变化；相反地，O点元粒子时，探测器就会由于无散射光射入而不产生输出。 为此，根据以上分析，我们提出了如图2所示的材料内部微／纳米级体缺陷无损检测的新 途径。