印染废水的光催化氧化处理新进展.doc

  1. 1、本文档共26页,可阅读全部内容。
  2. 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
印染废水的光催化氧化处理新进展

印染废水的光催化氧化处理新进展 维普资讯 第2 1 卷 第 3期  Vo 1 . 2 l   No . 3   重庆工商 大学 学报 ( 自然科 学版 )   J   C h o n g q i n g   T e c h n o l   B u s i n e s s   U n i v . ( N a t   S c i   E d )   2 0 0 4年 6月  J u n .2 0 0 4   文章 编号 : 1 6 7 2— 0 5 8 X( 2 0 0 4 ) 0 3 — 0 2 2 9— 0 4   印染 废 水 的 光 催 化 氧化 处 理 新 进 展  王星敏  , 陈胜福  ( 1 . 重 庆 工商 大学 环境 与生 物 工程 学 院 , 重庆 4 0 0 0 3 3 ; 2 . 重 庆兼 善 中学 , 重庆 4 0 0 7 0 0 )   摘 要: 介绍 了光催化氧化 处理 印染废水 的作用机理 , 通过 对 印染废 水 的综合 分析 , 指 出印  染废水的光催化 氧化处理的影响 因素 , 以及 现 有 处理印 染废 水的 方法 , 并对光 催化 处理 印 染废  水的主要 问题进 行 了探 讨 , 为 实际印染废水 中有机物的降解提供研 究依据 。   关键词 : 光催化 氧化 ; 印染废 水 ; 处理  中图分类 号 : O   6 3 1 、 1 3   文献标识码 : A   1   印染废水 的来源 、 组成 、 危害  印染废水产生 于印染行业 , 是一 种色度高 、 有机 污染物含量高且 组分 复杂 、 化学需 氧量 ( C O D) 和生物  需 氧量 ( B O D) 高的废 水 , 其水质 变动范 围大 … 。印染废水 主要来 源于印染加 工 的 4个 工序 , 即: 预处理 阶  段工 序排 出的退浆废 水 、 煮炼废水 、 漂 白废水 和丝 光废水 ; 染 色工序 排 出 的染色 废水 ; 印花工 序排 出的 印  花废水 和皂液废水 ; 整理工序排 出的整 理废水 。当 印染工艺 及采用 的纤 维种 类 和加 工工艺 不 同时 , 印染  废水的水质 特 征及 其 污染物 的成 分 也相 对不 同。一般 印染 废 水 p H 值 为 6—1 0 , C O D  为 4 0 0一   l   0 0 0   m g / L , B O D s 为1 0 0— 4 0 0   m g / L , S S为 1 0 0— 2 0 0   m g / L , 色度为 1 0 0— 4 0 0倍 。   除含有助剂 和大量的浆料外 , 废水 中还含有苯胺 、 硝基 苯 、 邻 苯二 甲酸类 等含 有苯环 、 胺基 、 偶氮 等基  团的有毒有机污染 物 , 不但难 以生物 降解 , 而且 多为致 癌物质 J , 危 及人 的身 体健康 。这 些废水 如果 直接  排放 , 不仅会影 响水 生植物 的光合作 用 , 降低 水 中的溶解 氧 , 影 响水 生动 物 的生 长 , 而且 印染废 水 中含 有  的大量 的硫 酸盐 , 也会在 土壤 中转 化为硫 化物 , 引起植物 根部腐 烂 , 使 土壤 性 质恶 化 L 3   J , 造 成严 重 的环境  危害 。因此 , 治理 印染废水势在必行 。   2 光 催 化 氧 化 作用 原 理  光催化 氧化法是建立在 能带理论的基础上 , 以 n型半 导体作 敏化剂 的一种 光敏氧 化法 。当半 导体受  到能量等于或 大于半导体 的禁带 宽度( 带 隙能 ,  ) 的光照射时 , 价 带 电子被激 发到导 带上 , 在 导带上 产生  带 负 电的高 活性 电子 ( e 一 ) , 在价带上 产生带正 电荷 的空 穴 ( h  ) , 形 成 电子 一 空 穴对 , 在 电场作 用下分 离  并迁 移到粒子 表面 。价带空穴有很强 的得 电子 能力 , 是高 活性 的氧化 剂 , 可夺 去 吸附在 半 导体 颗粒表 面  有机物 和溶剂 中的电子 , 使原本不 吸 收光 的物 质被 活化 氧化 。导带 电子则具 有 很强 的还原 能力 , 是 很好  的还原剂 。   光催化 氧化过程 主要 是利用处于激发态 的价带 空穴 ( h  ) 和导带 电子 ( e 一 ) 与吸附在 半导体 表面 的或  存 在于双 电层 附近 的电子 给体和 电子受体发 生反应 的过程 。在这过程 中, 电子 一空穴对 除 了加 速光催化  反应 外 , 还存在着在 n s 到p s 时间 内发生 的复合 的可 能性 。所 以 , 从动力 学角 度来 看 , 只有 当半 导体光催  化剂的表面预先存有有关的电子受体和电子供体时 , 界面电

文档评论(0)

1045141460 + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档