等离子体增强原子层沉积原理与应用_曹燕强案例.pdfVIP

等离子体增强原子层沉积原理与应用_曹燕强案例.pdf

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、 加工 测量与设备 Processin ,MeasurementandE uiment g     q p 等离子体增强原子层沉积原理与应用 , 曹燕强 李爱东 ( , ) 南京大学 现代工程与应用科学学院 固体微结构物理国家重点实验室 南京 210093   : ( ) , 摘要 等离子体增强原子层沉积 PEALD 是一种低温制备高质量超薄薄膜的有效手段 近年 。 。 来正受到工业界和学术界广泛的关注 简要介绍了 PEALD 的发展历史和生长原理 描述了 : 、 PEALD 常见的三种设备构造 自由基增强原子层沉积 直接等离子体沉积和远程等离子体沉 , 。 , 、 积 比较了它们的优缺点 着重评述了 PEALD的特点 主要具有沉积温度低 前驱体和生长材 、 、 , 料种类广 工艺控制灵活 薄膜性能优异等优势 但也面临着薄膜三维贴合性下降和等离子体损 。 , 、 、 伤等挑战 列举了PEALD的一些重要应用 如在金属薄膜制备 铜互连阻挡层 高介电常数材 、 。 。 料 薄膜封裹等领域的应用 最后展望了PEALD的发展前景 : ; ( ); ; ; ; ; 关键词 等离子体 原子层沉积 ALD 薄膜沉积 金属薄膜 互连阻挡层 高介电材料 薄 膜封裹 中图分类号: 文献标识码: 文章编号: ( ) TN305.8 A 1671-4776 2012 07-0483-08     PrincileandA licationsofPlasmaEnhanced p    pp       AtomicLa erDe osition   y   p , CaoYan ian LiAidon   q g   g (

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