集成组合技术.ppt

集成组合技术 提纲挈领 技术简介 发展历史 仪器设备 应用概述及实例 趋势及展望 什么是集成组合技术 引入阵列化的概念 考虑无机材料生长特性 集成组合技术是将分立的样品阵列式地集成为样品库（或材料芯片），实现组成的准连续或连续变化及组分选择的多样性，快速、高效、并行制备/处理/检测大量样品，以比传统方法快百倍、千倍乃至更高的速度获得统计意义上的优化结果。 优点： 快速、高效 大大减小原材料的浪费 降低发现新材料的偶然性 Kennedy et al. 三元合金相图的快速绘制 Hanak 不同组分的超导体和磁性材料的研究 Xiang and Schultz 通过多层前驱薄膜的技术 制备出空间可寻址的样品库芯片 应用于铜酸盐超导体的研究 1990 应用于氧化物的逐层控制的沉积 1994 原子级别的LMBE法制备SrTiO3 仪器设备 用于无机材料研究需解决的三个关键问题 材料芯片的设计 材料芯片的高速并行制备 材料芯片的快速表征 高的空间分辨对传统方法的挑战 性能千差万别对统一表征模式的挑战 其他要求(快速、无损、定量……) 光线性能 最容易 可凭视觉判断 仪器已经商品化 电光/磁光性能 测定偏振光实现 传统方法 对薄膜阵列式样品折射系数变化很小 解决方法 交变电场作为外加电场 电场方向与入射光偏振方向成45° 有效双折射随外加电压变化以前相对相位差 磁学性能 微波性质 非接触式 快速、无损、定量 超导、铁电、磁阻…… 微电子机械系统(MEMS) ——形状记忆合金的检测 结构表征系统 聚焦离子束(FIB) +高分辨透射电镜 原位检测结构/成分 很强的穿透能力 能用于非常精确的定量分析 其他检测技术 空间分辨元素分析——微探针 相图绘制——X射线微衍射 结构/组成分析——同步加速器 应用概述及实例 新材料的探测和发现 掺杂剂的筛选 确定体系的优化及拓展 相似体系的挖掘 近期动态 介电/铁电材料 磁性材料 磁性半导体 形状记忆合金 显示/存储氧化物 发光材料 Sr2CeO4 (Gd2–xZnx)2O3:Eu3+ 其他材料 热电材料 电极材料 非晶态材料——P2O5–TeO2–ZnO 研究目的 寻找一种适于Bi4Ti3O12单晶薄膜液相外延生长的助熔剂 研究体系 自熔体系 ：Bi2O3 和Bi4Ti3O12 掺杂助熔剂：VOx, WOx, CuOx, BiPOx, BaO, MoOx 研究方法 制样技术： 三相外延 组合技术 基底材料： SrTiO3 (001) 检测手段： X射线衍射 趋势及展望 适用性更广的检测工具 纳米粒子等领域的组合合成 与高通量检测的进一步整合 半导体制造业的加工参数优化 致谢 Van Dover et al. 非晶金属氧化物介电薄膜 30个组分连续变化的多相系统 对每个系统，合成和检测需要一天 ‘sweet spot’ ——Zr0.2Sn0.2Ti0.6O2 约30组沉积参数下进行优化 研究员：Matsumoto et al. 目的：新的光催化剂 体系：掺3d过渡金属的TiO2 制备方法：CLMBE 单晶衬底：LaAlO3和Al2O3 发现：掺Co的锐钛矿TiO2的铁磁性 室温下，8%，透明，单相，磁性 Ni–Mn–Ga体系 富Mn贫Ga区域 组分：Co0.1Mn0.02Ge0.88 制备：CMBE Tc ：280K 应用概述及实例 应用概述及实例 应用概述及实例 应用实例 R. Takahashi et al. / Applied Surface Science xxx (2005) xxx–xxx 应用概述及实例 应用概述及实例 图17 (a) VLS and (b) TPE的示意图 应用概述及实例 TPE中，液相层和前驱薄膜都是由脉冲激光化学计量地烧蚀所得到的气相所补给的 图18 助熔剂组合筛选的示意图 应用概述及实例 图19 30000个连续组分的Bi4Ti3O12 (0014) 峰峰强随组分的变化图 应用概述及实例 可以观测到最强的峰强的组分点大约在Bi:Ti:Cu = 61.7:30.8:7.5 (at.%) 制 作 人 员 资料收集 单 萌 郑 周 俊 资料补充 高 源 李 静 波 林 久 资料整理 周 海 军 PPT制作 霍 伟 亮 (排名不分先后) 应用概述及实例 集显示和磁存储于一身，开创了一个新的领域 应用概述及实例 * 合成的一般流程 图1 合成的一般流程 技术简介 图1 合成的一般流程 反应物在反应器中的混合 反应物在必要的条件下(如外加能量)