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第七章世界光电技术发展概况 - 光电科技工业协进会
第 七 章 世 界 光 電 技 術 發 展 概 況 7 - 1
第七章 世界光電技術發展概況
7 - 1 光 電 元 件 技 術
7 - 1 - 1 L D 技 術 發 展
n 光 通 訊 L D
1.資訊傳遞速度越來越快 (ON - OFF 頻率越來越高 ):網路上 1998
年頻寬需求是 100M bit/ s ,1999 年增為 1G bit/ s ,目前 2000 年
是 2.5G bit / s ,但是到 2001 年底 ,預估就會有 10G bit/ s 的需求 ,
頻寬的需求是如此迫切 ,但是光通訊 LD 要如何配合這樣的需求 ?
就技術上來說 ,1G bit/ s 與 10G bit/ s 的光通訊 LD 是完全不同的
技 術 與 難 度 ,關 鍵 在 於 外 部 調 變 (external moldula tion) 。以 F-P
edge -emitting LD 而言,直接對 LD 本體施以調變電壓,使 LD 發出
之光產生明與暗,即 1 與 0 之訊號變化,要做到 2.5G bit / s 已是
非常困難。若再往 10G bit/ s 推進,其難度很高。因此針對 10G bit
/ s 的 LD ,目前有兩個解決方案:一是Oxidation VCSEL ,藉由材
料上的變化及採用垂直共振腔面射型結構,可以達到 10G bit/ s ,
目前只有 Honeywell 與 Picolight 有此產品,因物以稀為貴,此兩
家公司均挑選客戶才販賣。 二是外部調變 (external moldulation) ,
不直接對 LD 本體施以調變電壓,而是待雷射光射出後,藉由外部
結構對其施以調變,使用到模組與積體光學,體積較大,即所謂電
吸收模組雷射 (EML ,electro-absorption modulatoin laser) 。目前擁
有此種技術的廠商全球僅二 ~三家,美國 Lucent 為其一,是十分有
發 展 潛 力 的 產 品 。
2. 材 料 與 波 長 : 在 材 料 方 面 , 光 通 訊 LD 過 去 使 用 磷 砷 化 銦 鎵
(InGaAsP) ,雖然此種材料光電特性良好,但溫度易上升,需加裝
冷卻器降溫,成本較高。 而含鋁之 AlInGaAs ,溫度較穩定,不需
外加 冷卻器,因此具發展潛力,國內光電所與中華電信研究所曾合
作開發此一材料,也有國內廠商從事 1310nm AlInGaAs LD 生產。
而溫度特性更佳的 InGaNAs LD ,光電所也有投入前瞻研發。在波
PIDA Photonics Industry Technology
Development Association
第 七 章 世 界 光 電 技 術 發 展 概 況 7 - 2
長方面,因為光纖通訊漸由長途長距離骨幹網路向短距離區域網路
發展,光通訊 LD 也由長波長 1550nm 高品質,朝向短波長 850nm
消費性產品發展,因此價廉且具量產優勢之 VCSEL 就成為另一潛
力產品。而 1310nm 及 850nm 是 10G bit/ s Ethernet 規格波長,未
來 成 長 可 期 。
n 光 儲 存 L D
波 長 往 短 波 長 發 展 : 因 應 消 費 電 子 產 品 所 需 之 資 訊 量 不 斷 增
長,不論光碟機或光碟片皆有各種新技術研發,朝向更高儲存密度
發 展 , 例 如 : 縮 小 光 碟 機 讀 寫 頭 雷 射 光 波 長 或 增 加 透 鏡 數
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