深刻蚀高密度熔融石英光栅.PDF

第 33 卷 　第 2 期 中　 国 　激 　光 Vol . 33 , No . 2 　 2006 年 2 月 C H IN ESE J OU RN AL O F L A SER S February , 2006 　 　　文章编号 :(2006) 020 17504 深刻蚀高密度熔融石英光栅 1 ,2 1 1 1 ,2 王顺权 , 周常河 , 茹华一 , 张妍妍 ( 1 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海 20 1800 ;2 中国科学院研究生院 , 北京 100039) 摘要 　深刻蚀高密度熔融石英光栅是一种新型高效的衍射光学元件 ,具有衍射效率高 、成本低 、抗损伤 ,能在高强 ( ) 度激光条件下工作等优点 。给出了利用感应耦合等离子体 ICP 技术制作熔融石英深刻蚀光栅的详细过程 ,并在 一定的优化条件下制作了一系列不同周期 、开口比和深度的高质量深刻蚀石英光栅 。实验得到的最大刻蚀深度为 μ μ 4 m ,并且在 600 l/ mm 的高密度条件下得到了刻蚀深度为 1. 9 m 的高深宽比石英光栅 。光栅侧壁陡直 ,表面平 整 ,没有聚合物沉积 。所制作的熔融石英光栅元件在高强激光环境 、光谱仪 、高效滤波器和波分复用系统等领域中 有非常广泛的用途 。 关键词 　光栅 ;深刻蚀 ;感应耦合等离子体 ;熔融石英 中图分类号 　TN 305 . 7 ;O 436 . 1 　　　文献标识码 　A Deep Etched HighDensity Fused Sil ica Phase Gratings WAN G Shunquan , Z HOU Changhe , RU Huayi , Z HAN G Yanyan 1 S hang hai I ns ti t ute of Op tics an d F i ne M echanics , The Chi nese A ca demy of S ciences , S hang hai 20 1800 , Chi na 2 Gra d uate of t he Chi nese A ca dem ic of S ciences , B eij i ng 100039 , Chi na Abstract 　Deep etched highden sit y fu sed silica grating i s a new diff ractive op tical element wit h advant ages of high diffraction efficiency , and low co st . In t hi s p ap er , t he det ailed fabrication p rocess of microop tical deep etched fu sed silica p ha se gratings i s p resent ed wit h inductively coup led p lasma ( ICP) t echnolo gy . Deep etched p ha se gratings wit h different p eriods , dep t h s , and dut y cycles have been fabric