光谱成像仪CCD焦平面组件非均匀性校正技术研究.PDF

维普资讯 第35卷第5期 光 子 学 报 Vo1．35No．5 2006年 5月 ACTA PHOTONICA SINICA 光谱成像仪CCD焦平面组件非均匀性校正技术研究 薛利军h 李 自田 李长乐 计忠瑛 崔 艳 ， 王忠厚 (1中国科学院西安光学精密机械研究所，西安 710068) (2中国科学院研究生院，北京 100039) 摘 要 分析 了光谱成像仪CCD焦平面的非均匀性机理和各种非均匀性校正算法，提 出两点多段的 非均匀性校正算法，该算法避免了两点校正算法的低准确度和多点校正算法的大运算量 ．在光谱成 像仪上的应用结果表明，两点多段的非均匀性校正算法具有运算量小、准确度高、实用性强的优点． 关键词 光谱成像仪 CCD焦平面；非均匀性}线性校正；两点多段校正法 中图分类号 TP773 文献标识码 A 中抽取一块像元的典型的响应不均匀性状况 ． O 引言 分析光谱成像仪 CCD焦平面探测器的非均匀 光谱成像技术能获得被测 目标的空间和光谱信 性产生原因对于建立校正算法模型是很重要的 ．以 息，在航空航天遥感、军事侦察、环境监测、资源勘测 下就器件 自身、器件工作状态和外界因素等三个方 等领域具有重要的应用价值 ．光谱成像仪 CCD焦 面来分析非均匀性的来源 ． 平面探测器是各种光谱成像仪的核心部件 ．由于光 1．1 器件 自身非均匀性 谱成像仪CCD焦平面探测器各个像元对光强和光 器件 自身非均匀性是光谱成像仪 CCD焦平面 谱响应度的不均匀性，使得光谱成像仪的成像质量 探测器非均匀性的主要组成部分 ．受 目前的材料制 较差，直接影响到仪器的光谱分辨率 ．本文主要讨 造及工艺所限，CCD器件 的材料 中会 出现掺杂不 论光谱成像仪CCD焦平面对光强响应的不均匀性． 均、厚度不等和探测元尺寸不均等各种缺陷，造成不 光谱成像仪 CCD焦平面探测器的响应非均匀性 问 同探测单元之间参量的不同，从而引起探测元响应 题不同于一般的图像噪音，一般的图像噪音是瞬态 的差异 ．探测元产生的光生电荷信号必须被注入到 随机噪音 ．探测器 的非均匀性是一种 固定图形噪音 读 出电路实现输 出．同样 由于材料和制造工艺水平 (FixedPatternNoise)．它是 由于探测器的加工工 的制约，各个耦合传输通道的参量也不尽相同，使得 艺、材料、温度和偏置情况等多种因素所造成的． 探测单元和读出电路之间的信号耦合 以及读出电路 为了改善成像质量和光谱分辨率，就需要对光 的电荷传输效率都存在着差异，这些都将引起器件 谱成像仪CCD焦平面进行非均匀性校正 ．本文首 响应输 出信号的非均匀性 ． 先分析传统的非均匀性校正算法，然后提出二点多 1．2 CCD暗电流的不均匀性 段线性校正算法，并给出校正的效果 ． 暗电流的大小与光照强度无关，而与CCD像素 的本征材料、大小、温度等有关 ．CCD暗电流的主要 1 产生非均匀性的原因 成分有：1)耗尽区内通过复合中心的热产生}2)通过 图I反映了从一个 512×256像元的面阵CCD 表面态的热产生；3)通过本征跃迁过程的热产生；4) 在耗尽区边界的扩散 电流 ．在室温下，边界扩散 电