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电荷转移、信号输出
光电成像器件—CCD CCD是一种电荷耦合器件(Charge Coupled Device) CCD的突出特点:是以电荷作为信号,而不同于其它大多数器件是以电流或者电压为信号。 CCD的基本功能是电荷的存储和电荷的转移。 CCD工作过程的主要问题是信号电荷的产生、存储、传输和检测。 CCD的结构 MOS 光敏元:构成CCD的基本单元是MOS(金属—氧化物—半导体)结构。 电荷存储 在栅极加正偏压之前,P型半导体中的空穴(多子)的分布是均匀的。 加正偏压后,空穴被排斥而产生耗尽区,偏压增加,耗尽区向内延伸。 当UG> Uth时,半导体与绝缘体界面上的电势变得非常高,以致于将半导体内的电子(少子)吸引到表面,形成一层极薄但电荷浓度很高的反型层。 反型层电荷的存在表明了MOS结构存储电荷的功能。 电荷的转移(耦合) 第一个电极保持10V,第二个电极上的电压由2V变到10V,因这两个电极靠得很紧(间隔只有几微米),它们各自的对应势阱将合并在一起。原来在第一个电极下的电荷变为这两个电极下势阱所共有。 若此后第一个电极电压由10V变为2V,第二个电极电压仍为10V,则共有的电荷转移到第二个电极下的势阱中。这样,深势阱及电荷包向右移动了一个位置。 CCD电极间隙必须很小,电荷才能不受阻碍地自一个电极转移到相邻电极。对绝大多数CCD,1μm的间隙长度是足够了。 CCD的工作原理 CCD主要由三部分组成:信号输入、电荷转移、信号输出。 输入部分:将信号电荷引入到CCD的第一个转移栅极下的势阱中,称为电荷注入。 电荷注入的方法主要有两类:光注入和电注入 电注入:用于滤波、延迟线和存储器等。通过输入二极管给输入栅极施加电压。 光注入:用于摄像机。用光敏元件代替输入二极管。当光照射CCD硅片时,在栅极附近的半导体体内产生电子—空穴对,其多数载流子被栅极电压排开,少数载流子则被收集在势阱中形成信号电荷。 CCD的工作原理 在CCD栅极上施加按一定规律变化、大小超过阈值的电压,则在半导体表面形成不同深浅的势阱。势阱用于存储信号电荷,其深度同步于信号电压变化,使阱内信号电荷沿半导体表面传输,最后从输出二极管送出视频信号。 为了实现电荷的定向转移,在CCD的MOS阵列上划分成以几个相邻MOS电荷为一单元的循环结构。一位CCD中含的MOS个数即为CCD的像数。 以电子为信号电荷的CCD称为N型沟道CCD,简称为N型CCD。而以空穴为信号电荷的CCD称为P型沟道CCD,简称为P型CCD。由于电子的迁移率远大于空穴的迁移率,因此N型CCD比P型CCD的工作频率高得多。 CCD的特点 体积小,功耗低,可靠性高,寿命长。 空间分辨率高,可以获得很高的定位精度和测量精度。 光电灵敏度高,动态范围大,红外敏感性强,信噪比高 。 高速扫描,基本上不保留残象(电子束摄象管有15~20%的残象) 集成度高 可用于非接触精密尺寸测量系统。 无像元烧伤、扭曲,不受电磁干扰。 有数字扫描能力。象元的位置可由数字代码确定,便于与计算机结合接口。 CCD的特性参数 像素数量,CCD尺寸,最低照度,信噪比等 像素数是指CCD上感光元件的数量。44万(768*576)、100万(1024*1024)、200万(1600*1200)、600万(2832*2128) 信噪比:典型值为46分贝 感光范围 — 可见光、红外 CCD按电荷存储的位置分有两种基本类型 1、电荷包存储在半导体与绝缘体之间的界面,并沿界面传输 ——表面沟道CCD(简称SCCD)。 2、电荷包存储在离半导体表面一定深度的体内,并在半导体体内沿一定方向传输, ——体沟道或埋沟道器件(简称BCCD)。 CCD的类型 线阵CCD:光敏元排列为一行的称为线阵,象元数从128位至5000位以至7000位不等,由于生产厂家象元数的不同,市场上有数十种型号的器件可供选用。 面阵CCD:器件象元排列为一平面,它包含若干行和列的结合。 目前达到实用阶段的象元数由25万至数百万个不等,按照片子的尺寸不同有1/3英寸、l/2英寸、2/3英寸以至1英寸之分。 线阵CCD:一行,扫描;体积小,价格低;面阵CCD: 整幅图像;直观;价格高,体积大; CCD在检测方面的应用 几何量测量 自动步枪激光模拟射击系统。 光谱测量 光谱仪输出信号测量。 * * (P/N型层) 电极 电荷的转移(耦合) P-Si 输入 栅 输入二极管 输出二极管 输出 栅 SiO2 CCD的类型 面阵CCD芯片
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